[发明专利]辐照装置及利用其进行杀菌处理的方法

权利要求书

1.一种辐照装置，用于照射被辐照物(30)，其特征在于，包括：

加速器组件，所述加速器组件包括第一加速器和第二加速器，所述第一加速器和所述第二加速器设置在所述被辐照物(30)的两侧，所述第一加速器和所述第二加速器用于分别产生辐照所述被辐照物(30)的第一电子束(21)和第二电子束(22)；

偏转磁铁组件(100)和扫描磁铁组件(200)依次设置在所述第一电子束(21)和所述第二电子束(22)的传输路径上；

其中，所述偏转磁铁组件(100)用于分别对所述第一电子束(21)和所述第二电子束(22)进行偏转，所述扫描磁铁组件(200)用于分别对所述第一电子束(21)和所述第二电子束(22)进行扫描，以使所述第一电子束(21)和所述第二电子束(22)分别照射在所述被辐照物(30)上。

2.根据权利要求1所述的辐照装置，其特征在于，所述偏转磁铁组件(100)包括：

第一偏转磁铁(110)，所述第一偏转磁铁(110)用于对所述第一电子束(21)进行偏转，所述第一电子束(21)经过所述第一偏转磁铁(110)偏转的角度为第一偏转角；

第二偏转磁铁(120)，所述第二偏转磁铁(120)用于对所述第二电子束(22)进行偏转，所述第二电子束(22)经过所述第二偏转磁铁(120)偏转的角度为第二偏转角。

3.根据权利要求2所述的辐照装置，其特征在于，

所述第一偏转角等于所述第二偏转角；

所述第一偏转角大于或等于130°，且小于或等于150°。

4.根据权利要求2所述的辐照装置，其特征在于，还包括：

控制器，所述控制器配置成同时向所述第一偏转磁铁(110)和所述第二偏转磁铁(120)提供恒定电流。

5.根据权利要求2所述的辐照装置，其特征在于，

所述第一偏转磁铁(110)采用双聚焦结构的偏转磁铁。

6.根据权利要求2所述的辐照装置，其特征在于，所述第一偏转磁铁(110)包括：

第一磁轭(111)；

第二磁轭(112)，所述第二磁轭(112)和所述第一磁轭(111)相对设置；

第三磁轭(113)，所述第三磁轭(113)的两端分别与所述第一磁轭(111)和所述第二磁轭相连接；

其中，所述第一磁轭(111)包括向所述第二磁轭(112)延伸设置的第一凸起部，所述第二磁轭(112)包括向所述第一磁轭(111)延伸设置的第二凸起部(116)。

7.根据权利要求6所述的辐照装置，其特征在于，所述第一偏转磁铁(110)还包括：

第一线包(114)，所述第一线包(114)装配在所述第一凸起部上，以向所述第一磁轭(111)提供励磁电流；

第二线包(115)，所述第二线包(115)装配在所述第二凸起部(116)上，以向所述第二磁轭(112)提供励磁电流。

8.根据权利要求1所述的辐照装置，其特征在于，所述扫描磁铁组件(200)包括：

第一扫描磁铁(210)，所述第一扫描磁铁(210)用于对所述第一电子束(21)进行扫描，扫描后的所述第一电子束(21)照射在所述被辐照物(30)上；

第二扫描磁铁(220)，所述第二扫描磁铁(220)用于对所述第二电子束(22)进行扫描，扫描后的所述第二电子束(22)照射在所述被辐照物(30)上。

9.根据权利要求8所述的辐照装置，其特征在于，

所述第一扫描磁铁(210)采用H型结构的扫描磁铁。

10.根据权利要求9所述的辐照装置，其特征在于，还包括：

控制器，所述控制器配置成同时向所述第一扫描磁铁(210)和所述第二扫描磁铁(220)提供周期性电流，所述第一扫描磁铁(210)和所述第二扫描磁铁(220)的电流的周期为第一周期。