[发明专利]掩膜板的清洗设备

说明书

本申请实施例提供了一种掩膜板的清洗设备。该清洗设备的槽体组件包括清洗槽及溢流槽，循环过滤组件与清洗槽及溶剂回收组件连接，用于向清洗槽供给清洗溶剂，并且能使清洗溶剂在清洗槽内循环流动；杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，第一吸附装置设置于清洗槽与循环过滤组件之间，用于对清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；第二吸附装置设置于溢流槽及溶剂回收组件之间，用于对溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；溶剂回收组件用于回收溢流槽的清洗溶剂，并且通过循环过滤组件向清洗槽供给清洗溶剂，以及溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过循环过滤组件向清洗槽供给清洗溶剂。本申请实施例能使掩膜板的清洗满足指标。

技术领域

本申请涉及半导体加工技术领域，具体而言，本申请涉及一种掩膜板的清洗设备。

背景技术

目前，有源矩阵有机发光二极体面板(Active matrix organic light emittingdiode，AMOLED)与传统的液晶面板相比，AMOLED 具有反应速度较快、对比度更高、视角较广等特点，被广泛用在移动电话和媒体播放器上，并继续朝低功耗、低成本、大尺寸方向发展。镀膜工艺是AMOLED制程中的关键工艺，采用物理的或者化学的方式将所需材质沉积到玻璃基板上，制备AMOLED膜层的材料主要包括有机小分子、高分子聚合物、金属及合金等，大部分有机小分子薄膜、金属和合金薄膜通常采用真空热蒸镀来制备，可溶性有机小分子和聚合物薄膜可通过更为简单、快速和低成本的溶液法制备。真空热蒸镀成膜技术是采用在真空状态下加热待蒸镀材料，并通过带有特殊图案的金属掩膜板将材料选择性地沉积到玻璃基板的一种技术，成膜的同时，金属掩膜板表面上也会附着上膜层材料，为避免因材料堆积而造成的图案错误，金属掩膜板应定期清洗。

现有的掩膜板清洗设备多采用将金属掩膜板浸泡到清洗槽中清洗，清洗槽中装有清洗溶剂，清洗槽底部设置有超声波发生器，金属掩膜板需要清洗时，通过搬送装置将其投送到清洗槽中，开启超声波进行清洗，附着在金属掩膜板上的膜层会不断脱落形成杂质，杂质中一些密度小的膜层或者颗粒污染物会漂浮在清洗槽的上表面，较重的有机物颗粒或者金属颗粒通过超声波的作用会悬浮在清洗溶剂中，在清洗完成后，金属掩膜板从清洗槽提取出来时，会重新沾染上悬浮在清洗溶剂中或者漂浮在清洗溶剂液面的杂质，造成二次污染使金属掩膜板的清洗指标不达标，以及需要经常更换清洗溶剂，造成清洗成本较高。随着清洗时间的加长，清洗溶剂中的杂质会逐渐沉积在清洗槽的内壁和底部，为了保证清洗溶剂清洁必须经常对清洗槽进行维护，从而降低了金属掩膜板清洗的生产节拍。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜板的清洗设备，用以解决现有技术存在的掩膜板清洗不达标及清洗成本较高，以及清洗槽维护频率较高的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种掩膜板的清洗设备，包括：槽体组件、循环过滤组件、杂质吸附组件及溶剂回收组件；所述槽体组件包括清洗槽及溢流槽，所述清洗槽用于容置清洗溶剂以对所掩膜板进行清洗；所述溢流槽设置于所述清洗槽的至少一侧，用于回收所述清洗槽溢流的清洗溶剂；所述循环过滤组件与所述清洗槽及所述溶剂回收组件连接，用于向所述清洗槽供给清洗溶剂，并且能使所述清洗溶剂在所述清洗槽内循环流动；所述杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，所述第一吸附装置设置于所述清洗槽与所述循环过滤组件之间，用于对所述清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述第二吸附装置设置于所述溢流槽及所述溶剂回收组件之间，用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述溶剂回收组件用于回收所述溢流槽的清洗溶剂，并且通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂，以及所述溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂。

于本申请的一实施例中，所述清洗设备还包括喷淋管组件，所述喷淋管组件沿所述清洗槽的长度方向延伸设置，所述溢流槽沿所述清洗槽的长度方向延伸设置在所述清洗槽的外侧，所述喷淋管组件用于向所述清洗槽的液面喷淋清洗溶剂；所述清洗槽与所述溢流槽贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口。