[发明专利]IC载板的挡墙结构的结合方法及发光二极管光学结构在审
| 申请号: | 202110087935.8 | 申请日: | 2021-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN114824027A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
| 发明(设计)人: | 王东泽 | 申请(专利权)人: | 荣星科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/60 |
| 代理公司: | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人: | 齐胜杰 |
| 地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | ic 挡墙 结构 结合 方法 发光二极管 光学 | ||
1.一种IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,包括下列步骤:
提供一个基板;
在真空环境下,将一个感光层热压施覆于该基板上;
在真空环境下,将一个挡墙结构热压结合于该感光层上;
将该挡墙结构投影到该基板以外部位的感光层蚀刻去除;及以一个固化温度烘烤该感光层至定型。
2.如权利要求1所述的IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,该固化温度为120~180℃。
3.如权利要求1所述的IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,该感光层为膜片的型态,该感光层贴合于该基板上。
4.如权利要求1所述的IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,该感光层系将感光胶涂布或喷涂于该基板上,并经80~120℃的预烘烤定型而成。
5.如权利要求1所述的IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,该基板具有连接的一个基材层及一个电极层,该感光层施覆于该基板上时遮盖该电极层,且蚀刻去除部分的该感光层后,该感光层局部遮盖该电极层或未遮盖该电极层。
6.如权利要求1所述的IC载板的挡墙结构的结合方法,其特征在于,该挡墙结构结合有另一个感光层,该挡墙结构上的另一个感光层与该基板上的感光层相结合。
7.一种发光二极管光学结构,由权利要求1至6中任一项所述的IC载板的挡墙结构的结合方法所制成,其特征在于,一个芯片电性连接该基板的一个电极层,该挡墙结构环绕该芯片设置。
8.如权利要求7所述的发光二极管光学结构,其特征在于,该挡墙结构具有一个外环面及一个内环面,该感光层与该外环面及该内环面平齐。
9.如权利要求7所述的发光二极管光学结构,其特征在于,该电极层与该挡墙结构之间具有一个小于或等于0.15mm的径向间距或于轴向相对位。
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