[发明专利]用于清洁喷嘴施涂器的清洁装置和相应的清洁方法

权利要求书

1.一种用于清洁喷嘴施涂器(1)的清洁装置(2)，其被设计用于将涂层剂施涂到部件上并且在喷嘴区域中具有多个施涂喷嘴(4)，以便在施涂期间通过施涂喷嘴(4)在施涂方向上排放所述涂层剂，所述清洁装置具有

a)清洁剂供应装置(11、12)，其用于供应用于清洁所述喷嘴施涂器(1)的清洁剂，以及

b)对接接口(14)，其用于将待清洁的喷嘴施涂器(1)对接到清洁装置，

其特征在于

c)所述对接接口被设计成能够通过所述喷嘴施涂器(1)的施涂喷嘴(4)逆着正常施涂方向将清洁剂冲入所述喷嘴施涂器(1)中。

2.根据权利要求1所述的清洁装置(2)，其特征在于，

a)所述对接接口(14)具有密封件(14)，所述密封件(14)在对接状态下以流体密封和可选地压力密封的方式密封所述喷嘴施涂器(1)的喷嘴区域，以便能够通过施涂喷嘴(4)与正常施涂方向相反地将清洁剂冲入喷嘴施涂器(1)中，

b)所述密封件(14)可选地是环形的并且包围带有施涂喷嘴(4)的喷嘴区域，

c)在对接状态下，所述清洁装置(2)和所述喷嘴施涂器(1)可选地在它们之间包封出冲入空间(15)，所述冲洗空间(15)通过所述密封件(14)与环境密封。

3.根据前述权利要求中任一项所述的清洁装置(2)，

其特征在于

a)所述清洁装置(2)的清洁剂供应装置(11、12)包括至少一个清洁剂阀(V_RSE、PL_RSE)，特别是

a1)压缩空气阀(PL_RSE)，其控制通过所述清洁装置(2)的空气供应装置(12)的压缩空气流，和/或

a2)冲洗剂阀(V_RSE)，其控制通过所述清洁装置(2)的冲洗剂供应装置(11)的冲洗剂流，

b)所述清洁装置(2)具有用于排放涂层剂残留物的回流系统(13)，和/或

c)在所述清洁装置(2)的回流系统(13)中布置有回流阀(RF_RSE)，所述回流阀控制进入所述清洁装置(2)的回流系统(13)的材料流，

d)所述清洁装置(2)的回流系统(13)和清洁剂供应装置(11、12)优选地通向所述清洁装置(2)与所述喷嘴施涂器(1)之间的冲如空间(15)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的清洁装置(2)，

其特征在于

a)所述喷嘴施涂器(1)包括具有至少一个清洁剂阀(V、PL、FGV)的至少一个清洁剂供应装置(7、8)，特别是

a1)具有压缩空气阀(PL)的压缩空气供应装置(8)，所述压缩空气阀(PL)控制通过所述清洁装置(2)的压缩空气供应装置(8)的压缩空气流，和/或

a2)具有冲洗剂阀(V)的冲洗剂供应装置(7)，所述冲洗剂阀(V)控制通过所述清洁装置(2)的冲洗剂供应装置(7)的冲洗剂流，和/或

a3)在输入侧连接到压缩空气阀(PL)和冲洗剂阀(V)的释放阀(FGV)，

b)所述喷嘴施涂器(1)具有用于排放涂层剂残留物的回流系统(9)，

c)在所述喷嘴施涂器(1)的回流系统(9)中布置有回流阀(RF)，所述回流阀(RF)控制进入所述喷嘴施涂器(1)的回流系统(9)的材料流，和/或

d)所述喷嘴施涂器(1)具有控制涂层剂输送的至少一个主阀(HV)。