[发明专利]用于增强CO2

说明书

功率放大器包括气体激光器腔室、气体激光器功率源、催化剂腔室、反馈装置和处理器。气体激光器腔室被配置为容纳流动气体混合物。气体激光器功率源被耦合到气体激光器腔室，并且被配置为向流动气体混合物提供能量以输出激光束。催化剂腔室被耦合到气体激光器腔室并且包括催化剂，该催化剂被配置为对流动气体混合物中的离解分子进行再氧化。反馈装置被耦合到气体激光器腔室和/或激光束，并且被配置为测量功率放大器的特性。处理器被耦合到催化剂腔室和反馈装置。该处理器被配置为基于经测量的特性来调整流动气体混合物于催化剂腔室中的催化剂的暴露量。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年12月3日提交的题为“GAS QUALITY OPTIMIZATION FORENHANCED CO2 DRIVE LASER PERFORMANCE”的美国申请62/942,789的优先权，该美国申请通过引用被整体并入本文中。

技术领域

本公开涉及例如用于光刻设备和系统的功率放大器设备和系统。

背景技术

光刻设备是被构造为将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模、掩模版)的图案投影到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4至20nm范围内(例如，6.7nm或13.5nm)的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成较小特征。

EUV辐射可以通过将材料转换成发射EUV辐射的等离子体态来产生。经放大的光束可以用于产生EUV等离子体源。红外激光器可以在驱动激光器输入功率和输出EUV功率之间产生高转换效率。

然而，在气体激光器的高功率放电期间，激光器气体混合物的分子会离解并污染功率放大器。此外，激光器气体混合物中的这种污染会不利地影响激光器性能并使功率放大器随时间退化。

发明内容

因此，需要减少激光器气体混合物分子的离解和功率放大器随时间的退化，并且监测和动态控制在功率放大器中的激光器气体混合物的质量。

在一些实施例中，用于激光器的功率放大器包括气体激光器腔室、气体激光器功率源、催化剂腔室、反馈装置和处理器。气体激光器腔室被配置为容纳流动气体混合物。气体激光器功率源被耦合到气体激光器腔室，并且被配置为向流动气体混合物提供能量以输出激光束。催化剂腔室被耦合到气体激光器腔室并且包括催化剂，该催化剂被配置为对流动气体混合物中的离解分子进行再氧化。反馈装置被耦合到气体激光器腔室和/或激光束，并且被配置为测量功率放大器的特性。处理器被耦合到催化剂腔室和反馈装置。该处理器被配置为：基于经测量的特性来调整流动气体混合物于催化剂腔室中的催化剂的暴露量，和/或基于经测量的特性来调整流动气体混合物中的一种或多种组分通过气体激光器腔室的流量，和/或基于经测量的特性来调整催化剂腔室中的催化剂的温度。

在一些实施例中，处理器被配置为：基于经测量的特性来调整流动气体混合物于催化剂腔室中的催化剂的暴露量。在一些实施例中，处理器被配置为：基于经测量的特性来调整流动气体混合物中的一种或多种组分通过气体激光器腔室的流量。在一些实施例中，处理器被配置为：基于经测量的特性来调整催化剂腔室中的催化剂的温度。

在一些实施例中，特性包括激光束的输出功率。在一些实施例中，特性包括激光束的增益。在一些实施例中，特性包括气体激光器腔室中的流动气体混合物的组分的浓度。在一些实施例中，特性包括光谱特征。在一些实施例中，特性包括色谱特征和/或质谱特征。