[发明专利]CMP期间基于温度的原位边缘不对称校正

权利要求书

1.一种化学机械抛光设备，包括：

平台，所述平台用于保持抛光垫；

能旋转的载体，所述载体在抛光工艺期间将基板保持抵靠所述抛光垫的抛光表面，所述载体通过第一致动器在整个所述抛光垫上能横向移动并且通过第二致动器能旋转；

热控制系统，所述热控制系统包括一个或多个能独立控制的加热器和/或冷却器，以独立地控制所述抛光垫上的多个区中的至少一个区相对于所述多个区中的另一个区的温度；以及

控制器，所述控制器配置为使所述热控制系统生成具有第一温度的第一区和具有不同的第二温度的第二区，所述控制器经进一步配置为控制所述第一致动器和所述第二致动器以使承载头的横向振荡与所述承载头的旋转同步，使得在所述承载头的多个连续振荡中，当所述基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕所述承载头的旋转轴的方位角位置处时，所述第一角度幅面覆盖所述第一区，并且当所述基板的所述边缘部分的第二角度幅面在所述方位角位置处时，所述第二幅面覆盖所述第二区。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述平台是能旋转的。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述第一区和所述第二区是围绕所述平台的旋转轴的同心环。

4.如权利要求2所述的设备，其中所述致动器配置为沿着所述平台的半径振荡所述载体。

5.如权利要求2所述的设备，其中所述方位角位置是所述基板相对于所述平台的所述旋转轴的最外部位置。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述控制器配置为控制所述第一致动器和所述第二致动器以使所述承载头的横向振荡与所述承载头的旋转同步，使得在所述承载头的多个连续振荡中，当所述基板的边缘部分的第三角度幅面在所述方位角位置处时，所述第三角度幅面覆盖第三区。

7.一种化学机械抛光设备，包括：

能旋转的平台，所述平台用于保持抛光垫，所述平台通过电机能旋转；

载体，所述载体在抛光工艺期间将基板保持抵靠所述抛光垫的抛光表面，所述载体通过第一致动器在整个所述抛光垫上能横向移动并且通过第二致动器能旋转；

热控制系统，所述热控制系统包括一个或多个能独立控制的加热器和/或冷却器，以独立地控制所述抛光垫上的区的温度；以及

控制器，所述控制器配置为当抛光垫的区在所述一个或多个加热器或冷却器下方旋转时，使所述热控制系统间歇地向所述抛光垫的所述区施加热或冷却，以便在距所述平台的旋转轴的共同径向距离处生成环形区域，所述环形区域具有交替的不同温度的第一区域和第二区域，所述控制器进一步配置为控制所述电机和所述热控制系统以使所述抛光垫的所述区的加热和冷却与承载头的旋转同步，使得在所述承载头的多个连续振荡中，当所述基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕所述承载头的所述旋转轴的方位角处时，所述第一角度幅面覆盖所述第一区域，并且当所述基板的所述边缘部分的第二角度幅面在围绕所述承载头的所述旋转轴的所述方位角处时，所述第二幅面覆盖所述第二区域。

8.如权利要求7所述的设备，其中所述区是围绕所述平台的旋转轴的同心环。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述交替的第一区域和第二区域是沿着所述环的弓形段。

10.如权利要求7所述的设备，其中所述致动器配置为在使所述抛光垫的所述区的加热和冷却与所述承载头的旋转期间同步的同时将所述载体保持静止。

11.如权利要求7所述的设备，其中所述方位角位置是所述基板相对于所述平台的所述旋转轴的最外部位置。

12.如权利要求7所述的设备，其中所述控制器配置为控制所述电机和所述热控制系统以使所述抛光垫的所述区的加热和冷却与所述承载头的旋转同步，使得在所述承载头的多个连续振荡中，当所述基板的边缘部分的第三角度幅面在所述方位角位置处时，所述基板的所述边缘部分的所述第三角度幅面覆盖所述区的第三区域。