[发明专利]芯片上定位显微镜法

权利要求书

1.一种成像系统，所述成像系统包括：

分析基底，所述分析基底包括：

定位层，所述定位层待设置有样品，所述样品包含设置有荧光染料的核苷酸；和

传感器层，所述定位层相对于所述传感器层位于芯片上；和

成像电路，所述成像电路对所述样品进行成像，所述成像电路包括：

传感器像素阵列，所述传感器像素阵列位于所述传感器层处，所述传感器像素阵列中的一个或多个像素接收来自所述荧光染料的荧光传播；和

拟合电路，所述拟合电路使用所述传感器层的信号来识别由于点扩散函数而产生的像素强度分布，以及通过对所述像素强度分布进行函数拟合来确定所述像素强度分布的形心。

2.根据权利要求1所述的成像系统，其中所述分析基底是流通池的一部分。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的成像系统，其中所述定位层包括纳米凹腔。

4.根据权利要求1或2中任一项所述的成像系统，其中所述定位层包括零模波导。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的成像系统，其中所述定位层包括表面钝化层。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的成像系统，其中所述传感器层包括互补金属氧化物半导体芯片。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的成像系统，其中所述传感器像素阵列包括光电二极管阵列。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的成像系统，其中所述传感器层包括电荷耦合器件。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的成像系统，其中所述分析基底还包括位于所述定位层和所述传感器层之间的间隔层，所述间隔层具有基于来自所述荧光染料的所述荧光传播的厚度。

10.根据权利要求9所述的成像系统，其中所述间隔层包括平面波导。

11.根据权利要求9至10中任一项所述的成像系统，其中所述间隔层的所述厚度对应于由预定义比例的所述传感器像素阵列正在接收的来自所述荧光染料的所述荧光传播。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的成像系统，其中所述间隔层的所述厚度基于来自所述荧光染料的所述荧光传播的预定义半峰全宽来选择。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的成像系统，其中所述成像电路还包括限制电路，所述限制电路限制所述拟合电路仅在由凹腔分布模式指示的至少一个区域中对所述像素强度分布进行所述函数拟合。

14.根据权利要求13所述的成像系统，其中所述成像电路还包括拒绝电路，以拒绝由所述凹腔分布模式指示的所述区域之外的至少一个定位。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的成像系统，其中所述传感器层提供所述定位层的单个视场。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的成像系统，还包括位于所述定位层和所述传感器层之间的过滤层，所述过滤层包括至少一个滤色器。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的成像系统，其中所述分析基底在所述定位层和所述传感器层之间不具有过滤器，并且其中所述分析基底在所述定位层和所述传感器层之间不具有波导。

18.根据权利要求1至17中任一项所述的成像系统，还包括：

照明光源；

照明光定时电路，所述照明光定时电路使用所述照明光源生成离散光脉冲；和

图像传感器定时电路，所述图像传感器定时电路基于所述照明光的所述离散光脉冲对所述传感器像素阵列进行时间门控。