[实用新型]一种砖体的均匀上釉的上釉装置有效
| 申请号: | 202023035418.6 | 申请日: | 2020-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN214819482U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
| 发明(设计)人: | 袁红;吴则昌;刘畅;邓荣;潘婷;李丽芳 | 申请(专利权)人: | 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司 |
| 主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
| 代理公司: | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人: | 资凯亮 |
| 地址: | 528031 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 均匀 上釉 装置 | ||
1.一种砖体的均匀上釉的上釉装置,其特征在于,包括:第一传送结构、第二传送结构和上釉组件;
所述第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体,两者相向设置,两者之间设置有所述上釉组件;
所述上釉组件包括:储釉容器、上釉主动辊、上釉从动辊和上釉驱动器;
所述上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于所述储釉容器内,所述储釉容器用于储存表面釉;两个所述上釉从动辊水平相靠或成间隙设置,所述上釉主动辊设置于所述上釉从动辊的上方,并分别接触于两侧的所述上釉从动辊,所述上釉主动辊用于接触经过于所述第一传送结构和第二传送结构之间的砖体;所述上釉驱动器的输出端连接所述上釉主动辊和/或上釉从动辊,用于驱动所述上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。
2.根据权利要求1所述的上釉装置,其特征在于,所述上釉主动辊抵靠于所述上釉从动辊,所述上釉从动辊与所述上釉主动辊同步转动。
3.根据权利要求1或2所述的上釉装置,其特征在于,所述上釉主动辊和/或所述上釉从动辊的外侧设有多道粘釉槽。
4.根据权利要求3所述的上釉装置,其特征在于,所述粘釉槽沿所述上釉主动辊或所述上釉从动辊的径向设置。
5.根据权利要求3所述的上釉装置,其特征在于,所述上釉组件包括:补釉管和配釉容器;
所述补釉管,其输入端连通所述配釉容器,其输出端对准或连通于所述储釉容器,用于向所述储釉容器输出表面釉。
6.根据权利要求1所述的上釉装置,其特征在于,所述第一传送结构和/或第二传送结构包括:传送基座、主动传送轴、从动传送轴、主动轮、从动轮、同步带和传送驱动器;
所述主动传送轴和从动传送轴可转动地安装于所述传送基座;所述主动轮安装于所述主动传送轴;所述从动轮安装于所述从动传送轴;所述同步带同步转动地连接于所述主动轮和所述从动轮,所述同步带用于放置砖体;所述传送驱动器的输出端连接于所述主动传送轴,用于驱动所述主动传送轴转动。
7.根据权利要求6所述的上釉装置,其特征在于,所述主动传送轴上设置有多个所述主动轮;所述从动传送轴上设置有多个所述从动轮;
所述主动轮、从动轮和同步带形成传送单元;所述传送单元的数量为多个。
8.根据权利要求7所述的上釉装置,其特征在于,所述同步带上设有推块;所述推块用于接触砖体。
9.根据权利要求8所述的上釉装置,其特征在于,所述同步带于所述砖体的多个侧面设有所述推块。
10.根据权利要求1所述的上釉装置,其特征在于,所述第一传送结构和/或第二传送结构包括:支撑杆和辅助从动辊;
所述支撑杆设置于所述储釉容器的外侧,所述辅助从动辊可转动地安装于所述支撑杆;所述辅助从动辊的上表面与所述上釉主动辊的上表面处于同一水平面。
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