[实用新型]一种用于多室真空炉的密封结构有效

专利信息
申请号: 202022357795.5 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN213454948U 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 苏应斌 申请(专利权)人: 武汉市广源宏达实业有限公司
主分类号: F27D1/18 分类号: F27D1/18
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 430000 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 真空炉 密封 结构
【权利要求书】:

1.一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:包括炉体(1),所述炉体(1)顶部固定设置有上安装座(2),所述上安装座(2)顶部固定设置有顶板(3),所述顶板(3)顶部中心处固定设置有双轴驱动电机(4),所述双轴驱动电机(4)的输出轴端部通过连接套(5)传动连接有螺杆(6),所述螺杆(6)外侧套接设置有滑动块(7),所述滑动块(7)与螺杆(6)螺纹连接,所述滑动块(7)底端固定设置有炉门(8);

所述炉体(1)顶部两侧均开设有滑槽A(9),所述滑动块(7)位于滑槽A(9)内侧,且滑动块(7)外壁与滑槽A(9)内壁滑动连接;

所述炉体(1)底部固定设置有下安装座(11),所述下安装座(11)底部固定设置有底座(12),所述底座(12)底部固定设置有支座(13),所述炉门(8)滑动设置于支座(13)顶部。

2.根据权利要求1所述的一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:所述顶板(3)顶部两端均固定设置有定位块(10),所述定位块(10)通过轴承活动套接设置于螺杆(6)外侧端部。

3.根据权利要求1所述的一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:所述底座(12)顶部两侧均开设有滑槽B(14)以及底座(12)内部开设有安装腔室(15),所述滑槽B(14)与安装腔室(15)连通。

4.根据权利要求3所述的一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:所述安装腔室(15)内部中心处设置有驱动齿轮(16),所述驱动齿轮(16)正面固定贯穿设置有旋转轴(17),所述旋转轴(17)一端通过轴承嵌套设置于安装腔室(15)内壁上以及旋转轴(17)另一端贯穿安装腔室(15)内壁并延伸至底座(12)外部,所述旋转轴(17)端部外侧固定设置有转盘(18)。

5.根据权利要求3所述的一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:两个所述炉门(8)底部均固定设置有传动杆(19),两个所述传动杆(19)分别位于两个滑槽B(14)内侧,所述传动杆(19)端部固定设置有平移板(20)。

6.根据权利要求5所述的一种用于多室真空炉的密封结构,其特征在于:所述平移板(20)靠近驱动齿轮(16)的一侧均匀固定设置有多个凸齿(21),所述凸齿(21)与驱动齿轮(16)啮合。

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