[实用新型]一种三膜中空玻璃

权利要求书

1.一种三膜中空玻璃，其特征在于：第一层膜为超白纳米涂层，中间暖边不锈钢间隔条，第二层膜为超白纳米涂层，中间为暖边不锈钢间隔条，第三层膜为超白高透三银层；从一侧到另一侧的前两层膜结构一致均为纳米技术溅射形成的超白纳米涂层膜，具体膜层结构依次为第一层超白浮法基片、第二层SiN x膜层、第三层氧化铌和第四层TiO2；

第三层的膜系结构为第一层超白浮法基片、第二层为SiN x、第三层为介质层Nicr、第四层为金属导电层ZnAlOX、第五层为功能层Ag、第六层为金属导电层ZnAlOX、第七层为介质层Nicr、第八层为SiNx、第九层为介质层Nicr、第十层为金属导电层ZnAlOX、第十一层为功能层Ag、第十二层介质层Nicr、第十三层金属导电层为ZnAlOX、第十四层为功能层Ag、第十五层为金属导电层ZnAlOX、第十六层为介质层Nicr、第十七层为陶瓷顶层Zro。

2.根据权利要求1所述的一种三膜中空玻璃，其特征在于：第一层膜系结构中，第一层超白浮法基片，第二层SiN x膜层厚度为25-40nm，第三层氧化铌总厚度为78-120nm，第四层TiO2为膜层厚度35-60nm；

第二层膜系结构同上；

第三层膜为超白高透三银层，膜系结构为第一层超白浮法基片，第二层为SiN x厚度为25-40nm，第三层为介质层Nicr厚度为5-16nm，第四层为金属导电层ZnAlOX厚度为5-10nm，第五层为功能层Ag厚度为3-12nm，第六层为金属导电层ZnAlOX厚度为5-10nm，第七层为介质层Nicr厚度为5-16nm，第八层为SiNx厚度为20-55nm，第九层为介质层Nicr厚度为5-16nm，第十层为金属导电层ZnAlOX厚度为5-10nm，第十一层为功能层Ag厚度为5-15nm，第十二层介质层Nicr厚度为5-16nm，第十三层金属导电层为ZnAlOX厚度为5-10nm，第十四层为功能层Ag厚度为5-15nm，第十五层为金属导电层ZnAlOX厚度为5-19nm，第十六层为介质层Nicr厚度为5-20nm，第十七层为陶瓷顶层Zro厚度为39-50nm。