[实用新型]一种除漆剂专用搪瓷反应釜

权利要求书

1.一种除漆剂专用搪瓷反应釜，包括夹层（3），其特征在于：所述夹层（3）的内侧设置有釜体（10），所述夹层（3）的外侧设置有连接板（4），所述连接板（4）的底部连接有移动组件（5），所述釜体（10）的底部中间设置有出料口（6），所述釜体（10）的底部一侧安装有温度传感器（7），所述釜体（10）的顶部中间设置有支架（14），所述支架（14）的顶部设置有电机（1），所述电机（1）靠近支架（14）的一端连接有转动轴（11），所述转动轴（11）的两侧设置有搅拌辊（12），所述搅拌辊（12）远离转动轴（11）的一端连接有固定块（18），所述固定块（18）的内部设置有空腔（16），所述空腔（16）的底部设置有限位板（17），所述空腔（16）与限位板（17）之间设置有弹簧（20），所述限位板（17）的内部嵌入安装有拉杆（19），所述拉杆（19）的顶部设置有顶板（15），所述固定块（18）远离转动轴（11）的一侧设置有侧板（9），所述侧板（9）靠近釜体（10）内壁一侧设置有毛刷（8），所述釜体（10）的顶部一侧设置有观察口（2），所述釜体（10）的顶部另一侧设置有进料口（13）。

2.根据权利要求1所述的一种除漆剂专用搪瓷反应釜，其特征在于：所述移动组件（5）包括移动架（51）、伸缩气缸（52）、底板（53）、挡板（54）、支撑腿（55）、滚轮（56）和缓冲垫（57），其中，所述移动架（51）的底部两侧设置有伸缩气缸（52），所述伸缩气缸（52）远离移动架（51）的一端连接有底板（53），所述底板（53）的底部设置有挡板（54），所述挡板（54）相邻一侧之间设置有滚轮（56），所述移动架（51）靠近伸缩气缸（52）的内侧设置有支撑腿（55），所述移动架（51）的上表面设置有缓冲垫（57）。

3.根据权利要求1所述的一种除漆剂专用搪瓷反应釜，其特征在于：所述夹层（3）的一侧设有蒸汽进口，所述夹层（3）的另一侧设有蒸汽出口，所述夹层（3）底部设有冷凝水出口。

4.根据权利要求1所述的一种除漆剂专用搪瓷反应釜，其特征在于：所述连接板（4）与移动组件（5）之间通过紧固螺栓固定，所述电机（1）与转动轴（11）之间连接有联轴器。

5.根据权利要求1所述的一种除漆剂专用搪瓷反应釜，其特征在于：所述搅拌辊（12）的内部设置有孔槽，所述搅拌辊（12）内部的孔槽直径大小与拉杆（19）的直径大小相匹配。

6.根据权利要求2所述的一种除漆剂专用搪瓷反应釜，其特征在于：所述移动架（51）与伸缩气缸（52）之间通过螺栓固定，所述移动架（51）与缓冲垫（57）之间通过环氧树脂胶粘接固定。