[发明专利]一种引线框架的表面镀膜工艺在审
| 申请号: | 202011500584.0 | 申请日: | 2020-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN114649211A | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
| 发明(设计)人: | 何志刚;王敏燕 | 申请(专利权)人: | 安徽省东科半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
| 代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 刘静宇 |
| 地址: | 243000 安徽省马鞍山市马鞍山经济技术*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 引线 框架 表面 镀膜 工艺 | ||
1.一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:具体工艺包括如下步骤:
S1、预处理;
S2、离子清洗;
S3、电镀处理;
S4、制备保护层。
2.根据权利要求1所述的一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:步骤S1中所述预处理包括:
1)、对成型的引线框架进行打磨,去除表面的毛刺;
2)、将打磨后的引线框架工件放入预处理液中,超声处理4~6min,脱除浮尘和油脂;
其中:预处理液由聚环氧琥珀酸钠、葡萄糖酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠按1:1~2.5:3~5组成。
3.根据权利要求1所述的一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:步骤S2中离子清洗,能够使等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子,作用到固体样品表面,不仅可以清除表面的污染物和杂质,还可以让等离子体作用到固体表面,将固体表面的原有的化学键产生断裂,等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构,提高材料表面活性。
4.根据权利要求1所述的一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:步骤S3中电镀处理具体操作方式为:将离子清洗后的引线框架工件放入电解液中,作为正极,采用不锈钢板作为负极,电镀处理8~10min,利用电解在工件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层,沉积厚度为2~5μm。
5.根据权利要求1所述的一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:步骤S3中所述电镀处理过程中电压为320~380V,电流为15~25A,频率为400~600Hz。
6.根据权利要求1所述的一种引线框架的表面镀膜工艺,其特征在于:
步骤S4所述制备保护层具体操作方式为:将电镀处理后的引线框架工件洗涤、烘干后,将聚三氟丙基甲基硅氧烷均匀涂覆在工件表面,室温下固化反应2~3h,再于100~120℃热处理1~2h,制得表面保护层,保护层的厚度为1~3μm。
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