[发明专利]防反射构造体在审

专利信息
申请号: 201980101384.7 申请日: 2019-11-25
公开(公告)号: CN114556161A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 佐藤英秋;上门洋祐;冈田泰幸;花冈真悟;高桥幸男;森本俊辅 申请(专利权)人: 大冢科技株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/118
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 黄盼
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射 构造
【权利要求书】:

1.一种防反射构造体,其中,所述防反射构造体包括:

主体,所述主体由含有黑色的色料的原料构成;以及

防反射构造,所述防反射构造形成于所述主体的外表面,

所述防反射构造包括:多个凹部,所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成;以及基座部,所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部,

所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部,

包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。

2.根据权利要求1所述的防反射构造体,其中,

所述假想圆的直径φ为1.0μm~50μm。

3.根据权利要求1或2所述的防反射构造体,其中,

所述主体形成为具有包括所述外表面的第一面及所述第一面的相反侧的第二面的层状。

4.根据权利要求3所述的防反射构造体,其中,

所述凹部的深度D为所述层状的所述主体的厚度T的1/2以下的大小。

5.根据权利要求4所述的防反射构造体,其中,

所述层状的所述主体的厚度T为0.01mm~5mm,所述凹部的深度D为0.005mm~2.5mm。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的防反射构造体,其中,

所述凹部在所述凹部的深度方向上的剖视时具有相互交叉的一对倾斜面,

所述一对倾斜面之间的角度θ为90°以下。

7.根据权利要求6所述的防反射构造体,其中,

所述一对倾斜面之间的角度θ为5°~90°。

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