[实用新型]一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构有效

专利信息
申请号: 201921382751.9 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN210917384U 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 金雪峰;罗慧瑜 申请(专利权)人: 广州市天作建筑规划设计有限公司
主分类号: E02D17/04 分类号: E02D17/04
代理公司: 东莞市浩宇专利代理事务所(普通合伙) 44460 代理人: 石艳丽
地址: 510000 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 局部 减少 周围环境 变形 基坑 支护 结构
【说明书】:

实用新型属于基坑支护技术领域,尤其为一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构。其中,所述地下室外墙体贴合设置在所述地下连续墙上;所述外墙暗梁固定设置在所述地下室外墙体上;所述底层板固定设置在所述地下室外墙体的底部;所述楼层板固定设置在所述地下室外墙体上且位于所述底层板的上方。本实用新型通过地下室外墙体与地下连续墙连为一体形成的复合墙,有效阻止了基坑支护结构和周边环境持续变形,解决了现有基坑支护结构会造成周围环境持续变形过大的缺陷,并利用地下室底层板、楼层板以及外墙暗梁混凝土施工时产生的向基坑外侧膨胀力形成对地下连续墙的支撑防护压力,达到局部减少周围环境变形的目的。

技术领域

本实用新型属于基坑支护技术领域,具体涉及一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构。

背景技术

城市中心区基坑一般紧临既有建筑、市政道路、地下隧道及管线等,周边环境十分复杂,在基坑支护、土方开挖以及后续的拆撑换撑施工过程中,势必会对周边环境的稳定性造成影响。严格的变形控制要求给基坑工程的设计、施工及监测带来新的挑战。环境变形指的是地表土层向基坑挤压下陷。

现有基坑支护,如图1所示,一般在地下连续墙与地下室外墙体侧壁间预留1~1.5m左右的施工活动槽作为施工空间。基坑开挖到底、施工完最下层地下室结构及外防水后,在支护结构与地下室侧壁间回填土,再分步拆除地下室外墙体内部的内支撑梁。施工完底层结构后,在施工活动槽回填素土压实形成素土层,再在楼板标高区域施工素混凝土作为素混凝土层的传力带,当传力带达到一定强度后方可拆除内支撑梁再继续施工上部结构。而众多实际情况是,由于空间限制,素填土层的回填质量一般较差,同时施工完的素混凝土层的传力带要达到强度需要一定时间,而现场由于施工流水及工期原因,浇注完素混凝土层的传力带后,即开始拆除内支撑梁,由于施工方总抱有基坑已局部回填,不会再出现安全事故的错误观念,殊不知虽基坑不会再出现大的安全事故,但继续增加的变形仍会对周边环境造成极大威协。且由于地下连续墙与地下室外墙体侧壁间预留施工活动槽的空间狭小,因此在此空间内回填土很难压实,对后期拆撑换撑带来隐患。拆撑换撑是指拆除基坑内侧支撑梁,而利用地下室外墙外侧回填土和素混凝土传力带来替换支撑支护结构。且现有基坑支护结构和周边环境变形不仅发生在基坑土方开挖阶段,而在后期地下室主体结构施工、拆撑换撑阶段仍会持续发生,使得基坑周边环境向基坑内侧持续挤压造成逐步变形过大,对周边环境影响较大。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型提供了一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构,以解决现有基坑支护结构会造成周围环境持续变形过大的缺陷。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构,包括有地下连续墙、地下室外墙体、底层板、楼层板以及外墙暗梁;其中,所述地下室外墙体贴合设置在所述地下连续墙上;所述外墙暗梁固定设置在所述地下室外墙体上;所述底层板固定设置在所述地下室外墙体的底部;所述楼层板固定设置在所述地下室外墙体上且位于所述底层板的上方。

作为本实用新型的优选方案,所述外墙暗梁横向固定设置在所述地下室外墙体上并将所述地下室外墙体隔绝形成若干个外墙分体。

作为本实用新型的优选方案,所述外墙分体与所述外墙暗梁为一体浇筑成型。

作为本实用新型的优选方案,所述地下室外墙体的外侧壁固定设置在所述地下连续墙的外侧壁上。

作为本实用新型的优选方案,该基坑支护结构还包括有垫板层;所述垫板层贴合固定设置在所述底层板的底部上。

作为本实用新型的优选方案,该垫板层的一端与所述地下室外墙体固定连接。

作为本实用新型的优选方案,所述楼层板和底层板上均割分设置有若干个层板格。

作为本实用新型的优选方案,该层板格包括有若干个第一楼层板格以及第二楼层板格;所述第一楼层板格与第二楼层板格间隔设置形成所述楼层板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州市天作建筑规划设计有限公司,未经广州市天作建筑规划设计有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921382751.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top