[发明专利]一种真空镀膜机的蒸发装置

说明书

本发明涉及一种真空镀膜机的蒸发装置，其包括：蒸发舟、加热系统、布气系统，蒸发舟包括有蒸发舟内层、蒸发舟外层和活动盖板，蒸发舟内层位于蒸发舟外层与活动盖板之间，活动盖板开设有多个蒸发孔，蒸发舟内层上开设有与蒸发孔对应的蒸发凹槽；加热系统包括多个相对独立的蒸发源，蒸发源设置有内坩埚，内坩埚嵌套于蒸发凹槽内，蒸发源能够对放置在内坩埚内的物体进行加热；设置多级二元型结构的布气管路，实现进气量的均匀性的控制，使蒸发气体与外部通入气体可以充分混合，形成均匀的复合薄膜。本发明采用蜂窝状结构的蒸发源加热效率高，能够保证材料的大面积加热蒸发时的均匀性，减少溅射现象，适用于大面积高速卷绕镀膜工艺。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其设计一种真空蒸发镀膜机的蒸发装置。

背景技术

近年来，随着光学薄膜技术以及半导体科技的发展，真空镀膜技术在生产中的应用也越来越广泛与重要。真空蒸镀是最普遍、应用最广的真空镀膜工艺，真空蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。

将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量(0.1～0.3eV)的粒子(原子、分子或原子团)。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，或吸附单粒子，或放出单粒子。此过程反复进行，当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核，再继续吸附扩散粒子而逐步长大，最终通过相邻稳定核的接触、合并，形成连续薄膜。

若需要高效镀制大面积薄膜，则需要真空卷绕镀膜工艺，在镀制大面积薄膜的时候，就需要对大量的基片进行加热，在现有的真空蒸镀设备中，采用的是小型蒸发舟对基片进行加热，蒸发量小而且加热效率低，蒸发过程中容易出现溅射现象，并不适合于大面积高速卷绕镀膜工艺。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为了解决现有技术的上述问题，本发明提供一种适用于大面积高速卷绕镀膜工艺的蒸发装置，以减少蒸发过程产生的溅射现象。

(二)技术方案

为了达到上述目的，本发明提供一种真空镀膜机的蒸发装置，其包括：

蒸发舟，所述蒸发舟包括有蒸发舟内层、蒸发舟外层和活动盖板，所述蒸发舟内层位于蒸发舟外层与活动盖板之间，所述活动盖板开设有多个蒸发孔，所述蒸发舟内层上开设有与所述蒸发孔对应的蒸发凹槽，蒸发孔与蒸发凹槽均按蜂窝状进行排布；

加热系统，所述加热系统包括多个相对独立的蒸发源，所述蒸发源设置有内坩埚，所述内坩埚嵌套于所述蒸发凹槽内，所述蒸发源能够对放置在所述内坩埚内的物体进行加热；

布气管道，所述布气管道设置在于所述蒸发舟上端，所述布气管道开设有进气口和多个出气口，所述进气口连接外部气体源，所述出气口朝向所述蒸发源。

优选地，所述蒸发源采用高频感应加热，所述蒸发源包括若干个感应线圈、绝热层、外坩埚，所述内坩埚叠套于所述外坩埚内，且所述绝热层设置于所述内坩埚的侧壁与所述外坩埚的侧壁之间，所述感应线圈设置于所述外坩埚的侧壁与所述蒸发舟内层之间。

优选地，所述蒸发源还包括有调隙垫片，所述调隙垫片位于所述内坩埚与所述绝热层之间。

优选地，所述蒸发源还设置有电极块，所述电极块连接外部交流电源，多个所述感应线圈串联为一组感应线圈组，多组所述感应线圈组相互并联，所述感应线圈组与所述电极块相连，所述感应线圈内部为中空管路，所述中空管路能够循环通入冷却剂进行冷却所述感应线圈。