[发明专利]一种控制卤代消毒副产物含量的方法

权利要求书

1.一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

（1）取砂滤出水，向水中通入O₃，并加入一定量的H₂O₂，搅拌；所述O₃投加量为1.0~1.5mg/L；所述H₂O₂投加量为0.05%~0.3%；所述O₃/H₂O₂氧化的时间为25~30 min；

（2）向步骤（1）获得的O₃/H₂O₂氧化后的出水进行陶瓷膜过滤，得到陶瓷膜出水；

（3）向步骤（2）获得的陶瓷膜出水中投加活性炭，密封振荡，得到吸附出水；

（4）将步骤（3）获得的吸附出水通过滤膜进行过滤，过滤后进行消毒，即可；

其中，所述H₂O₂的投加方式为两次投加和三次投加中的一种，两次投加H₂O₂中前后两次投加量分别为0.05%~0.25%和0.05%~0.25%，两次投加时机分别为反应开始时和反应10~20min时；三次投加H₂O₂中前后三次投加量分别为0.02%~0.1%、0.02%~0.1%、0.02%~0.1%，三次投加时机分别为反应开始时、反应5~10 min时、反应15~20 min时；

所述O₃/H₂O₂氧化过程中的搅拌方式为磁力搅拌；

所述砂滤出水中DOC浓度为4.60~5.80 mg/L，TDN浓度为0.66~1.02 mg/L，NH₄⁺-N浓度为0.35~0.62 mg/L，NO₃^--N浓度为0.10~0.18 mg/L，NO₂^--N浓度为0.01~0.04 mg/L，DON浓度为0.25~0.33 mg/L，UV₂₅₄在0.030~0.044 cm^-1之间；所述H₂O₂为30％的H₂O₂水溶液。

2.根据权利要求1所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述H₂O₂投加量为0.15%~0.2%。

3.根据权利要求1或2所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述陶瓷膜为孔径为0.05 μm，0.10 μm或1 μm的陶瓷膜中的一种。

4.根据权利要求1或2所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述活性炭的投加量为8~12 mg/L；所述活性炭的吸附时间为30~60 min。

5.根据权利要求3所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述活性炭的投加量为8~12 mg/L；所述活性炭的吸附时间为30~60 min。

6.根据权利要求1、2或5任一所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述消毒剂为次氯酸钠溶液，消毒条件为：加氯量30 mg/L，温度24~26℃，pH 6.5~7.5，避光反应24 h。

7.根据权利要求3所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述消毒剂为次氯酸钠溶液，消毒条件为：加氯量30 mg/L，温度24~26℃，pH 6.5~7.5，避光反应24h。

8.根据权利要求4所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法，其特征在于，所述消毒剂为次氯酸钠溶液，消毒条件为：加氯量30 mg/L，温度24~26℃，pH 6.5~7.5，避光反应24h。

9.权利要求1~8任一所述的一种控制卤代消毒副产物含量的方法在水处理领域中的应用。