[发明专利]一种超疏水自清洁辐射降温薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201910774588.9 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110483924B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 薛朝华;柳冰莹;王慧迪;贾顺田 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C08L27/16 | 分类号： | C08L27/16;C08L83/04;C08J5/18 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 高博 |
| 地址： | 710021*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 疏水 清洁 辐射 降温 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种超疏水自清洁辐射降温薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将P(VDFx-Co-HFPy)和PDMS溶解在复合极性溶剂中形成P(VDFx-Co-HFPy)/PDMS聚合物复合半透明溶液，具体为：
S101、称取一定量的P(VDFx-Co-HFPy)溶解在丙酮溶液中常温搅拌3～5h至完全溶解，P(VDFx-Co-HFPy)与丙酮的质量比为1﹕(10～15)；
S102、加入PDMS预聚体A组分和四氢呋喃溶剂并搅拌均匀，P(VDFx-Co-HFPy)与四氢呋喃的质量比为(1～2)：15；
S103、加入PDMS固化剂B组分搅拌15～30min，至均匀半透明状态，P(VDFx-Co-HFPy)与PDMS的质量比为(2.0～4.0)：1.0；
S2、向溶液中逐滴加入非溶剂使P(VDFx-Co-HFPy)/PDMS发生相分离形成溶胶；
S3、将溶胶进行浇铸，干燥，获得具有微纳双重多孔结构的薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中，非溶剂为水，加入方式为控制滴加速度每隔10s逐滴加入0.05ml水，形成溶胶。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，P(VDFx-Co-HFPy)与非溶剂水的质量比为：7﹕(12～6)。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S3中，溶胶在室温下干燥3～5h。
5.根据权利要求1所述方法制备的超疏水自清洁辐射降温薄膜，其特征在于，具有微纳双重多孔结构的薄膜对太阳光反射率为90.1％～96.5％，在中红外处的发射率为90.3％～94.3％，其表面上的水滴接触角为151.4°～162.3°，滚动角为1.4°～8.2°。
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