[发明专利]光罩的制造方法

权利要求书

1.一种光罩的制造方法，其特征在于，该方法包含：

形成一保护层于一基板上方，其中该保护层保护该基板免受一极紫外光(EUV)辐射；

形成多个反射薄膜多层于该保护层上方；

形成一覆盖层于该多个反射薄膜多层上方；

形成一吸收层于该覆盖层上方；

形成一第一光阻层于部分的该吸收层上方；

图案化部分的该第一光阻层与该吸收层，借以形成多个第一开口于该吸收层中，其中所述多个第一开口暴露出部分的该覆盖层；

移除该第一光阻层的剩余部分；

形成一第二光阻层于部分的该吸收层上方，其中该第二光阻层至少覆盖所述多个第一开口；

图案化未被该第二光阻层覆盖的该吸收层、该覆盖层、与该多个反射薄膜多层的部分，借以形成多个第二开口，其中所述多个第二开口暴露出部分的该保护层；以及

移除该第二光阻层。