[发明专利]表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法

权利要求书

1.一种用于处理物体(14)的表面处理设备(10)，所述物体尤其是机动车车身，所述表面处理设备包括：

a)薄膜转换过程(20)，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加到物体(14)上，

b)随后的冲洗步骤(22，24)，在该冲洗步骤中，物体(14)在薄膜转换过程(20)之后被利用冲洗介质(33)冲洗，和

c)脱离子设备(28)，该脱离子设备

-具有阳离子交换器(52)和下游的阴离子交换器(54)，和

-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子，

其特征在于，

在脱离子设备(28)上游连接有预处理装置(30)，该预处理装置被设置用于，将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。

2.根据权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)具有阴离子交换器(64)，该阴离子交换器被设置用于，将络合物阴离子与其它阴离子交换。

3.根据权利要求2所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)的阴离子交换器(64)包括选择性的交换器材料。

4.根据权利要求2至3中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)的阴离子交换器(64)被利用再生剂再生，该再生剂具有小于约6的pH值。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)除了所述阴离子交换器(64)之外还具有另一阴离子交换器，从而两个阴离子交换器被交替运行和再生。

6.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)具有用于使络合物阴离子从工作介质或冲洗介质(33)中沉淀的装置(72)以及随后的分离装置(74)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，将冲洗介质(33)输送到预处理装置(30)的多个冲洗槽(22，24)。

8.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，表面处理设备具有控制器(44)，该控制器被设置用于，使预处理装置(30)这样运行和再生，即，络合物阴离子最多以无害的浓度到达脱离子设备(28)中。

9.一种预处理装置，其被设置为连接在表面处理设备(10)的脱离子设备(28)上游，其还被设置用于将在表面处理设备(10)的薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。

10.一种用于处理来自表面处理设备(10)中的薄膜转换涂装过程(20)的工作介质和/或处理来自随后的冲洗步骤(22，24)的冲洗介质(33)的方法，所述方法包括以下步骤：

a)提供脱离子设备(28)，该脱离子设备

-具有阳离子交换器(52)和连接在下游的阴离子交换器(54)，

-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子；

b)提供预处理装置(30)，该预处理装置被连接在脱离子设备(28)上游并且被设置用于，将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除；

c)从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除络合物阴离子。

11.一种用于处理物体(14)的表面处理设备(10)，所述物体尤其是机动车车身，所述表面处理设备包括：

a)薄膜转换过程(20)，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加在物体(14)上，

b)随后的冲洗步骤(22，24)，在该冲洗步骤中，物体(14)在薄膜转换过程(20)之后被利用冲洗介质(33)冲洗，和

c)膜过滤设备(28)，该膜过滤设备

-被设置用于使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子，

其特征在于，

在膜过滤设备(28)上游连接有预处理装置(30)，该预处理装置被设置用于将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。