[发明专利]一种陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910178852.2 申请日: 2019-03-11
公开(公告)号: CN109942304A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 王超;尹方勇;王峰;刘晓存;李先奎;朱红海;王征 申请(专利权)人: 山东天汇研磨耐磨技术开发有限公司
主分类号: C04B35/63 分类号: C04B35/63;C04B35/632;C04B35/634
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 252000 山东省聊*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 组份 分散剂 聚合 丙烯酰胺基 甲基丙磺酸 甲基丙烯酸 聚合产物 陶瓷研磨 助磨 聚乙二醇单甲醚 聚羧酸分散剂 六水硝酸镧 羟基磷灰石 丙烯酰胺 初始稠度 对苯二酚 硅酸凝胶 过硫酸铵 技术效果 流性指数 微晶陶瓷 氧化铝粉 巯基乙醇 烧结 硅酸钠 缓凝性 泡花碱 速干性 隧道窑 溶质 微晶 制取 制造
【说明书】:

发明公开了一种陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂及其制造方法,该两用分散剂由三种组份组成,其中组份A为含硅酸钠溶质10%的泡花碱水溶液为原料制取的硅酸凝胶;组份B为采用对苯二酚、丙烯酰胺、聚乙二醇单甲醚、α‑甲基丙烯酸、2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸第一次聚合,第一次聚合产物与α‑甲基丙烯酸、2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸在巯基乙醇中第二次聚合,第二次聚合产物与过硫酸铵第三次聚合而最终获得的聚羧酸分散剂;组份C为氧化铝粉、六水硝酸镧、羟基磷灰石在隧道窑中微晶烧结而成的微晶陶瓷。本发明具有缓凝性好、初始稠度低、具有速干性、流性指数高、经济性好的技术效果。

技术领域

本发明涉及陶瓷研磨技术领域,尤其涉及一种陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂及其制造方法。

背景技术

陶瓷浆料分散剂是指能使固体颗粒表面迅速润湿,又能使固体质点间的能垒上升到足够高的一种表面活性剂,它能在低水分含量条件下,有效的提高浆料的颗粒润湿性、悬浮稳定性及浆体流变性,并使浆料具有适宜的黏度,达到节能降耗之目的。优秀的分散剂在陶瓷浆料的制备过程中,同时发挥着润湿、助磨、稀释和稳定几种作用,对提高陶瓷制品的性能和降低制造成本起着重要的作用。

但目前分散剂均没有直接助磨的功能,都是通过加入分散剂,吸附在颗粒的裂缝上并能深入到裂缝深处,在颗粒粉碎过程中形成的新界面,阻碍新生界面的重新结合从而加速粉碎过程,明显地缩短粉碎时间,节约能耗,从而间接地提高研磨效率。

缓凝剂是一种降低陶瓷或石膏水化速度和水化热、延长凝结时间的添加剂。在陶瓷浆料中掺人缓凝剂的目的是为了延长陶瓷的水化硬化时间,使新拌陶瓷浆料能在较长时间内保持塑性,从而提升陶瓷浆料的可塑性和成型性能。

但现有技术中的陶瓷分散剂与缓凝剂通常不可兼容,同时陶瓷分散剂一般会增加初始稠度,这样也导致了流性指数降低;同时现有技术通常具有释水性(水含量越高通常分散效果越好),不利于陶瓷干结;另外,现有技术中具有优良性能的添加剂反应物繁多,物料准备复杂,经济性差。

因此市场上需要一种缓凝性好、初始稠度低、具有速干性、流性指数高、经济性好的陶瓷添加剂。

发明内容

为解决现有技术中存在的上述缺陷,本发明旨在提供一种缓凝性好、初始稠度低、具有速干性、流性指数高、经济性好的陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂。

为了实现上述发明目的,本发明采用以下技术方案:一种陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂,该两用分散剂由三种组份组成,其中组份A为以按重量份计含硅酸钠溶质10%的泡花碱水溶液100份-120份为原料制取的硅酸凝胶;组份B为采用对苯二酚8份-9份、丙烯酰胺1份-1.2份、聚乙二醇单甲醚30份-35份、α-甲基丙烯酸8份-10份、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸4份-5份第一次聚合,第一次聚合产物与α-甲基丙烯酸7份-10份、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸4份-5份在巯基乙醇50份-55份中第二次聚合,第二次聚合产物与过硫酸铵8份-10份第三次聚合而最终获得的聚羧酸分散剂;组份C为氧化铝粉10份-12份、六水硝酸镧0.7份-0.8份、羟基磷灰石1份-1.5份在隧道窑中微晶烧结而成的微晶陶瓷34份-42份。

一种陶瓷研磨用助磨分散两用分散剂的制造方法,包括以下步骤:

1)原材料准备

①原材料准备:按重量份准备氧化铝粉10份-12份、六水硝酸镧0.7份-0.8份、羟基磷灰石1份-1.5份、含硅酸钠溶质10%的泡花碱水溶液100份-120份、对苯二酚8份-9份、丙烯酰胺1份-1.2份、甲苯100份-120份、聚乙二醇单甲醚30份-35份、α-甲基丙烯酸15份-20份、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸8份-10份、巯基乙醇50份-55份、过硫酸铵8份-10份、足量溶质质量分数10%的氢氧化钠溶液、足量去离子水;

②设备准备:准备真空抽滤设备、第一反应釜、第二反应釜、隧道窑、二氧化硅方形容器;

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