[发明专利]一种具有高度差的三维手性结构的制备方法

说明书

本发明涉及微纳结构制备领域，具体涉及一种具有高度差的三维手性结构的制备方法，包括以下步骤：步骤一、手性结构的模板制备；步骤二、采用第一沉积角进行倾斜镀膜；步骤三、采用第二沉积角进行倾斜镀膜；步骤四、进行处理，得到手性结构；该具有高度差的三维手性结构的制备方法，在制备存在高度差的手性结构的时候，不需要反复的进行甩胶、电子束曝光、套刻、显影、定影等工序，只需要调节镀膜的沉积角度，就可以制备存在高度差的手性结构，使得具有高度差的手性结构的制备更加方便，降低了电子束曝光技术的要求，减少了电子束曝光的次数。

技术领域

本发明属于金属结构制备领域，具体涉及一种具有高度差的三维手性结构的制备方法。

背景技术

手性用来表示结构的对称性，在多个学科都有重要的意义。手性是指物体不能与其镜像相重合的性质，就如同左手和右手互为镜像而无法重合。手性是生命过程中的基本特征，构成生命体的绝大所数有机分子都是手性分子。

研究者们利用人造手性结构来研究手性产生的机理和作为检测手性的传感器件，因此，制备手性结构变得非常重要。在制备具有高度差特点的手性结构的时候，需要根据手性结构的不同高度区域分别采用电子束刻蚀、电子束真空蒸发镀膜的方式进行制备，整个制备过程需要反复的进行甩胶、电子束曝光、套刻、显影、定影、镀膜、去胶，其中套刻过程十分的繁琐耗时，且容易出现误差，最终可能造成整个制备结构的失败。除此之外，对手性结构的不同高度需要准确定位，才能进行下一步骤的制备，这对于纳米级别的手性结构非常的困难，往往需要耗费大量的时间。

发明内容

为了解决现有手性结构制备存在工序复杂、制备困难、耗费时间的不足。

本发明提供了一种具有高度差的三维手性结构的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、手性结构的模板制备；

步骤二、采用第一沉积角进行倾斜镀膜；

步骤三、采用第二沉积角进行倾斜镀膜；

步骤四、进行处理，得到手性结构。

所述步骤一、手性结构的模板制备的具体步骤为：

(1)准备衬底，并在衬底上涂覆一层光刻胶；

(2)设计结构图形，并用电子束曝光对应区域形成所设计的图形；

(3)将经过曝光后的衬底放入显影液中浸泡；

(4)将经过烘干后的衬底进行定影，后用氮气烘干，得到手性结构的模板。

所述衬底为ITO玻璃。

所述步骤二、采用第一沉积角进行倾斜镀膜具体步骤为：将经过步骤一制备好的手性结构的模板放入电子束真空镀膜仪中，调整为第一沉积角，进行第一沉积角度的蒸镀金属材料。

所述骤三、采用第二沉积角进行倾斜镀膜具体步骤为：将手性结构的模板的沉积角度调整为第二沉积角，进行第二沉积角度的蒸镀金属材料。

所述步骤四、进行处理，得到手性结构具体步骤为：将将蒸镀完金属材料的手性结构的模板放入剥离液中浸泡，进行lift-off剥离工艺，后用氮气烘干，并进行SEM观察。

所述第一沉积角的角度大于第二沉积角的角度。

所述镀膜的材料为金，银或铜。