[实用新型]一种氮化硅炉管设备有效

专利信息
申请号: 201821096509.0 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN208776836U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/34
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷嘴 氮化硅 进气管 炉管 沉积炉管 清洁喷嘴 本实用新型 微尘颗粒 沉积 沉积氮化硅薄膜 氮化硅薄膜 企业成本 设备部件 设备运行 数量减少 内顶部 晶圆 制程 室内 共享 采购 节约 积累 改进
【权利要求书】:

1.一种氮化硅炉管设备,包含沉积炉管室,其特征在于,所述氮化硅炉管设备还包含:

进气管,所述进气管与所述沉积炉管室相连通,所述进气管包含进气管一、进气管二和进气管三;

设置在所述沉积炉管室内的多个喷嘴,所述喷嘴包含清洁喷嘴、沉积喷嘴及共享喷嘴;所述清洁喷嘴穿过所述沉积炉管室与所述进气管一相连通,用于提供清洁气体;所述沉积喷嘴穿过所述沉积炉管室与所述进气管二相连通,用于提供沉积气体一;所述共享喷嘴穿过所述沉积炉管室与所述进气管三相连通,用于提供清洁气体、腐蚀气体及沉积气体二。

2.根据权利要求1所述的氮化硅炉管设备,其特征在于,所述清洁喷嘴、所述沉积喷嘴和所述共享喷嘴具有在所述沉积炉管室内不相同的喷嘴高度差,其中所述共享喷嘴的喷嘴高度高于对应所述沉积喷嘴的喷嘴高度,所述沉积喷嘴的喷嘴高度高于对应所述清洁喷嘴的喷嘴高度。

3.根据权利要求1所述的氮化硅炉管设备,其特征在于,所述清洁喷嘴上设有不少于一个进气孔一;所述沉积喷嘴上设有不少于一个进气孔二;所述共享喷嘴上设有不少于一个进气孔三;所述进气孔一高于所述进气孔二的高度差相当于所述进气孔二高于所述进气孔三的高度差。

4.根据权利要求1所述的氮化硅炉管设备,其特征在于,所述沉积炉管室相对于所述进气管的另一端设置有排气口。

5.根据权利要求4所述的氮化硅炉管设备,其特征在于,所述排气口相对于所述沉积炉管室的另一端与排气管相连。

6.根据权利要求1所述的氮化硅炉管设备,其特征在于,所述清洁气体包含氮气;所述腐蚀气体包含氟气;所述沉积气体一包含氨气,所述沉积气体二包含二氯二氢硅(SiH2Cl2)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821096509.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top