[实用新型]一种半导体制程废气中氟化物的净化装置

说明书

本实用新型提供一种半导体制程废气中氟化物的净化装置，涉及净化装置技术领域。该半导体制程废气中氟化物的净化装置，包括机架，所述机架的左端通过废气管连通有废弃输出端，所述机架的顶端固定安装有火焰反应腔，所述火焰反应腔的内壁底端固定安装有空心管，所述空心管的顶部固定安装燃气反应装置，所述燃气反应装置包括燃气反应箱，所述火焰反应腔通过进气口连通有燃气输出端，所述燃气反应箱的外表面固定安装有火焰喷头。该半导体制程废气中氟化物的净化装置，把废气内的氟化物净化的更加彻底，更加高效，节约了净化时间，同时采用热能的循环利用节约能源，更加环保，使得把高温反应与水反应结合，节约反应时间和节约能源。

技术领域

本实用新型涉及净化装置技术领域，具体为一种半导体制程废气中氟化物的净化装置。

背景技术

半导体为一种常见的电子元件载体，随着社会的发展，电子产品的越来越多样化，半导体的应用也越来越常见，而制备半导体的过程也越来越被人们所熟知。

半导体在制备的过程中会出现大量有害的气体，这些气体直接排放会危害环境和人类的健康，尤其以氟化物的危害最为严重，所以出现一种净化氟化物的装置，传统的净化装置是先经过初步水洗的过程，再进过高温的过程，最后在进行水洗的过程，其中最后水洗的过程并不能彻底高效的净化，不利于环保。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体制程废气中氟化物的净化装置，解决了该氟化物的净化装置不能彻底高效的净化氟化物和不环保的问题。

技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种半导体制程废气中氟化物的净化装置，包括机架，所述机架的左端通过废气管连通有废弃输出端，所述机架的顶端固定安装有火焰反应腔，所述火焰反应腔的内壁底端固定安装有空心管，所述空心管的顶部固定安装燃气反应装置，所述燃气反应装置包括燃气反应箱，所述火焰反应腔通过进气口连通有燃气输出端，所述燃气反应箱的外表面固定安装有火焰喷头，所述燃气反应箱的外表面相对的一侧固定安装有水反应腔，所述燃气反应箱与燃气输出端连通有燃气输出管，所述机架的内壁底部通过螺栓固定安装有一号水泵，所述一号水泵与空心管连通有一号水管，所述机架的内壁底部固定安装有水箱，所述一号水泵与水箱连通有二号水管，所述火焰反应腔的内部底端固定焊接有打火装置，所述打火装置包括打火室，所述打火室的内部固定焊接用打火石，所述打火石的外表面滑动连接有摩擦石，所述摩擦石远离打火石的一端活动连接有推杆，所述推杆的外表面相背的一侧固定安装有弹簧，所述打火室的内壁开设有漏气孔，所述火焰反应腔的右侧固定焊接有风机室，所述风机室的内部通过安装板固定安装有风机，所述机架的顶部固定焊接有水洗反应室，所述风机的出气管顶部固定安装有风喷头，所述水洗反应室的内壁右侧固定焊接有二氧化硅反应盒，所述机架的底部通过螺栓固定安装有二号水泵，所述二号水泵与水箱连通有三号水管，所述二号水泵与水洗反应室连通有四号水管，所述水洗反应室的内壁底端固定安装有轴承装置，所述水洗反应室的顶部通过安装板固定安装有电机，所述轴承装置的顶部活动连接有旋转管，所述水洗反应室内部设置有水槽。

进一步的，所述二氧化硅反应盒的内部放置有二氧化硅粉末，所述二氧化硅反应盒外表面右侧开设有孔洞。

进一步的，所述旋转管的外表面开设有漏水孔，所述旋转管的顶部固定焊接有圆柱板，所述圆柱板远离旋转管的一端与电机的输出端活动连接。

进一步的，所述轴承装置包括外壳，所述外壳的内壁滑动连接有滚珠，所述滚珠与旋转管的外表面滑动连接。

进一步的，所述一号水管的右侧连通有支管，所述支管依次贯穿机架和水槽并延伸至水槽的内部。

进一步的，所述所述风机通过吸风管与火焰反应腔连通，所述风机的出风管贯穿水洗反应室并延伸至水洗反应室内部。