[实用新型]一种双室高真空多靶磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201820505598.3 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN208485945U | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 槐创锋;黄升;黄涛;石刚意 | 申请（专利权）人： | 华东交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 330013 江西省南昌市双港*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高真空 磁控溅射装置 多靶磁控溅射 抽取 本实用新型 溅射真空室 传递杆 溅射室 进样室 腔室 双室 溅射镀膜 人工参与 重新设计 作业效率 传统的 磁控靶 大影响 样品架 真空腔 工作台 加装 溅射 取件 时长 送件 消耗 保留 帮助 | ||
【权利要求书】：
1.一种双室高真空多靶磁控溅射装置，其特征在于，包括溅射真空室、样品架、磁控靶、进样室、传递杆和工作台；其中，所述溅射真空室，由优质不锈钢焊接，表面电解处理，腔室上分布法兰接口；所述样品架，带有样品总挡板，可以电动旋转，连续可调；所述磁控靶，射频和直流兼容，都可沿轴向移动，金属密封结构，靶安装有电动挡板,水磁分离结构，靶面为铜材质,在真空室内部分可以手动调整摆头，磁控靶之间有隔板隔开；所述进样室，由优质不锈钢焊接，表面电解处理，腔室上分布法兰接口；所述传递杆，由进口轴承及其滚珠丝杠组成，一端装有直线电机；所述工作台，整体装置的工作台采用方管打磨焊接而成，表面喷漆，周围安装折弯门板。
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