[发明专利]具有两阶段运动限制结构的MEMS装置在审

专利信息
申请号: 201811239549.0 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN109696164A 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: A·A·盖斯伯格 申请(专利权)人: 恩智浦美国有限公司
主分类号: G01C19/5656 分类号: G01C19/5656;G01C19/5663
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 接触区域 检验质量块 止动 运动限制 基板 臂结构 两阶段 震动力 基板移动 区域接触 接触力 减小 耦联 施加 响应 移动
【权利要求书】:

1.一种微机电系统(MEMS)装置,其特征在于,包括:

基板;

检验质量块,其与所述基板间隔开且能够相对于所述基板移动;和

运动限制结构,其包括柔性地耦联到所述检验质量块和所述基板中的第一者的臂结构,所述臂结构具有第一接触区域和第二接触区域,其中:

响应于对所述检验质量块强加的致使所述检验质量块移动的震动力,所述第一接触区域被配置成接触所述检验质量块和所述基板中的第二者上的第一止动区域;和

在所述第一接触区域与所述第一止动区域接触之后和在连续对所述检验质量块强加所述震动力后,所述第二接触区域被配置成接触所述检验质量块和所述基板中的所述第二者上的第二止动区域,使得所述第二接触区域与所述第二止动区域的接触减小了所述第一接触区域与所述第一止动区域之间的接触力。

2.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于,所述臂结构是悬臂式臂结构,所述悬臂式臂结构具有在枢转位置处柔性地耦联到所述检验质量块和所述基板中的所述第一者的第一末端。

3.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于,所述臂结构的第一末端在枢转位置处柔性地耦联到所述检验质量块和所述基板中的所述第一者,且所述第二接触区域比所述第一接触区域更接近所述枢转位置定位。

4.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于:

所述第一接触区域和所述第一止动区域中的一个包括第一凸块,所述第一凸块朝向所述第一接触区域和所述第一止动区域中的另一个延伸;和

所述第二接触区域和所述第二止动区域中的一个包括第二凸块,所述第二凸块朝向所述第二接触区域和所述第二止动区域中的另一个延伸。

5.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于,在对所述检验质量块强加所述震动力之前,所述第一接触区域与所述第一止动区域之间存在第一间隙,所述第一间隙具有第一间隙宽度,且所述第二接触区域与所述第二止动区域之间存在第二间隙,所述第二间隙具有第二间隙宽度,所述第二间隙宽度大于所述第一间隙宽度。

6.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于:

所述检验质量块被配置成围绕第一旋转轴枢转;

所述检验质量块包括所述第一旋转轴的一侧上的第一区段和所述第一旋转轴的相反侧上的第二区段,所述第一区段比所述第二区段形成有更大的质量;

所述臂结构接近于所述检验质量块的所述第一区段从所述检验质量块和所述基板中的所述第一者延伸;和

所述臂结构被配置成围绕平行于所述第一旋转轴的第二旋转轴枢转。

7.根据权利要求6所述的MEMS装置,其特征在于:

所述第一接触区域和所述第一止动区域在平行于所述基板的表面的方向上远离所述第二旋转轴移位第一距离;和

所述第二接触区域和所述第二止动区域在平行于所述基板的所述表面的所述方向上远离所述第二旋转轴移位第二距离,所述第二距离小于所述第一距离。

8.根据权利要求1所述的MEMS装置,其特征在于:

所述检验质量块被配置成在基本上平行于所述基板的表面的第一方向上移动;

所述臂结构接近于所述检验质量块的边缘从所述检验质量块和所述基板中的所述第一者延伸;和

所述臂结构被配置成围绕垂直于所述基板的所述表面的旋转轴枢转。

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