[发明专利]用于电子器件外壳的再循环过滤器

说明书

提供一种用于电子器件外壳中的过滤组件。所述过滤组件包括高度可渗透的罩层，所述罩层限定狭长外壳，所述狭长外壳具有在第一端的入口和封闭的第二端，其中静电过滤介质被安置在所述狭长外壳内。

本申请是在2013年8月10日作为一份PCT国际专利申请以唐纳森公司(DonaldsonCompany,Inc.)(一家美国国家公司，作为所有指定国家的申请人)，以及美国公民StanleyB.Miller,III、美国公民AllenN.Nicklay、美国公民ChristopherJ.Fischer、以及美国公民Daniel L.Tuma(作为所有指定国家的申请人和发明人)的名义而提交的，并且本申请要求于2012年8月10日提交的美国临时专利申请号61/681,618以及在2013年3月14日提交的美国专利申请号13/831,458的优先权，这些专利申请的内容通过引用以其全文结合在此。

技术领域

本发明针对用于电子器件外壳中的过滤器。具体地，本发明针对用于去除在电子器件外壳的内部循环的污染物的过滤器。

背景技术

在电子器件外壳(例如硬盘驱动器外壳)内的污染物可能减少在该外壳内的部件的效能和寿命。污染物可以包括化学品和微粒，并且可以从外部源进入硬盘驱动器外壳，或者在制造或使用过程中在该外壳内产生。这些污染物可能逐渐损害该驱动器，从而导致驱动器性能的恶化以及甚至该驱动器的完全失效。因此，数据存储系统如硬盘驱动器典型地包括一个或多个过滤器，这些过滤器能够去除或防止在该磁盘驱动器外壳内的空气中的微粒和/或化学污染物的进入。一种此类的过滤器是再循环过滤器，将该再循环过滤器总体上这样放置，使其可以从在磁盘驱动器内的一个或多个磁盘的旋转造成的空气流路径过滤掉污染物。尽管现有再循环过滤器可以去除许多污染物，但对于去除某些污染物，尤其是大的微粒污染物方面的改进的性能存在着需要。

发明内容

本发明部分针对用于电子器件外壳中的过滤组件。这些过滤组件被设计为去除在该电子器件外壳内循环的微粒污染物。具体地，这些过滤组件被构造并安排成通过捕获这些颗粒并且防止它们释放回到该电子器件外壳中来有效减少微粒污染物水平。典型地，这些过滤组件用一种介质几何结构进行构造，该介质几何结构有助于捕获颗粒，并且避免将颗粒反射出这些过滤组件。

在不同的实施例中，这些过滤组件进一步包括被进一步设计为促进捕获微粒污染物的介质构型。这些介质构型包括例如具有一种静电介质的构造，该静电介质覆盖在该过滤组件的内部上的罩层(scrim)材料的全部或一部分。无意受一种特定的工作机理束缚，据信该静电帮助防止颗粒撞击该介质并且然后反弹(经常被称为反射)，这在其他情况下可以在暴露的罩层材料上发生。该静电还可以进一步帮助捕获颗粒以防止它们通过该电子器件外壳继续循环。

在一个示例实施例中，该过滤组件包括一种介质结构，该介质结构包括开放的前端、封闭的后端、以及在该开放的前端与封闭的后端之间的内部凹陷。可渗透的过滤介质形成该凹陷的至少一部分。该凹陷典型地是相对深的，在一些情况下与该过滤组件的宽度一样深或比其更深。因此，该凹陷在一些实施例中可以是(例如)圆锥形或柱形。这种具有内部凹陷的再循环过滤器结构通过具有大的开放的前表面面积，同时具有甚至更大的包括过滤介质的内部表面面积，促进微粒污染物的捕获和截留。该内部介质表面通常相对于空气流动方向成角度，以便颗粒以锐角撞击该介质，这样使得它们可以在初始接触点处被该介质截留或被充分减速以被更深地截留在该过滤组件内部。

在一些实现方式中，该内部凹陷的表面面积的至少50％与该开口成小于或等于45度的角度。在一些示例实现方式中，该内部凹陷的表面面积的至少75％与该开口成小于或等于45度的角度。任选地该内部凹陷的表面面积的至少50％与该开口成小于或等于30度的角度。在一些示例实施例中，该内部凹陷的表面面积的至少75％与该开口成小于或等于30度的角度。