[发明专利]一种薄膜开关及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810990946.5 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN109300724B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 李胜夏;任大勇;高思敏 申请(专利权)人: 上海幂方电子科技有限公司
主分类号: H01H13/704 分类号: H01H13/704;H01H13/88
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201612 上海市松江*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜开关 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述方法包括:

在第一基底上形成第一导电图案,所述第一导电图案包括多个第一电极;

在第二基底上形成第二导电图案,所述第二导电图案包括多个第二电极,所述第二电极与所述第一电极对应设置且形状结构相互交错;

在每对所述第一电极和所述第二电极中至少一个电极周围印刷形成隔离结构,所述隔离结构被设置为露出所围绕的第一电极或第二电极的一部分;

以使得每对所述第一电极和所述第二电极相对设置的方式将所述第一基底和第二基底相互固定;

其中,将所述第一基底和第二基底相互固定为将第一基底和第二基底的薄膜边缘密封;

其中,所述在每对所述第一电极和所述第二电极中至少一个电极周围印刷形成隔离结构包括:

在每对所述第一电极和所述第二电极周围印刷形成所述隔离结构,每对电极所对应的隔离结构的形状结构相互交错;或者

在每个所述第一电极周围印刷形成所述隔离结构,所述隔离结构的形状结构设置为与所述第二电极的形状结构相互交错;或者

在每个所述第二电极周围印刷形成所述隔离结构,所述隔离结构的形状结构设置为与所述第一电极的形状结构相互交错;或者

在一部分第一电极周围印刷形成所述隔离结构,并在剩余部分第一电极对应的第二电极周围印刷形成所述隔离结构,所述第一电极的隔离结构的形状结构设置为与所述第二电极的形状结构相互交错,所述第二电极的隔离结构的形状结构设置为与所述第一电极的形状结构相互交错。

2.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述第一导电图案和所述第二导电图案通过印刷方式形成。

3.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述露出所围绕的第一电极或第二电极的一部分是所述第一电极或第二电极的中心区域。

4.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述印刷为丝网印刷、柔板印刷、凹版印刷、卷对卷印刷、喷墨打印或点胶。

5.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述第一基底和所述第二基底的材料是聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或聚氨酯。

6.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述第一电极和所述第二电极的材料是银浆、碳浆、金浆、铜浆、银纳米线薄膜或聚3,4-乙撑二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸盐。

7.根据权利要求1所述的一种薄膜开关的制造方法,其特征在于,所述隔离结构的材料是环氧树脂、硅胶、紫外光固化型油墨或氨基醇酸树脂油墨。

8.一种薄膜开关,其特征在于,包括:

第一基底;

第一导电图案,设置在所述第一基底上,包括多个第一电极;

第二基底,固定于所述第一基底的下方,被配置为与所述第一基底相对应;

第二导电图案,设置在所述第二基底上,与所述第一导电图案相对设置,所述第二导电图案包括与所述第一电极一一对应的多个第二电极,且所述第二电极与第一电极的形状结构相互交错;以及

隔离结构,设置在每对所述第一电极和所述第二电极中至少一个电极的周围,所述隔离结构被设置为露出所围绕的第一电极或第二电极的一部分;其中,所述隔离结构通过印刷方式形成;

其中,所述第一基底和第二基底的薄膜边缘密封;

其中,所述在每对所述第一电极和所述第二电极中至少一个电极周围印刷形成隔离结构包括:

在每对所述第一电极和所述第二电极周围印刷形成所述隔离结构,每对电极所对应的隔离结构的形状结构相互交错;或者

在每个所述第一电极周围印刷形成所述隔离结构,所述隔离结构的形状结构设置为与所述第二电极的形状结构相互交错;或者

在每个所述第二电极周围印刷形成所述隔离结构,所述隔离结构的形状结构设置为与所述第一电极的形状结构相互交错;或者

在一部分第一电极周围印刷形成所述隔离结构,并在剩余部分第一电极对应的第二电极周围印刷形成所述隔离结构,所述第一电极的隔离结构的形状结构设置为与所述第二电极的形状结构相互交错,所述第二电极的隔离结构的形状结构设置为与所述第一电极的形状结构相互交错。

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