[发明专利]氮化物半导体结构及半导体发光元件有效
| 申请号: | 201810450395.3 | 申请日: | 2013-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN108550670B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
| 发明(设计)人: | 吴俊德;李玉柱 | 申请(专利权)人: | 新世纪光电股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
| 地址: | 中国台湾台南市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 氮化物 半导体 结构 发光 元件 | ||
1.一种氮化物半导体结构,其特征在于,包括:
一N型复合半导体层;
一发光层,位于所述N型复合半导体层上,并具有多重量子阱结构,其中所述多重量子阱结构由多个阱层与多个阻障层交替堆叠而成;以及
一P型复合半导体层,位于所述发光层上,其中所述P型复合半导体层包括邻近于所述发光层的空穴提供层、远离于所述发光层的P型半导体层与夹于所述空穴提供层与所述P型半导体层之间的一P型载子阻隔层,所述空穴提供层的能隙大于所述多重量子阱结构之所述阱层的能隙,所述空穴提供层的材质包括铟,且所述P型载子阻隔层的材质包括铝,所述空穴提供层紧邻所述发光层,且所述空穴提供层掺杂有浓度为1017-1020cm-3的第四主族元素,所述第四主族元素为碳;所述空穴提供层还掺杂有浓度大于1018cm-3的P型掺质,所述P型掺质为镁。
2.如权利要求1所述的氮化物半导体结构,其特征在于,所述N型复合半导体层包括邻近于所述发光层的一N型载子阻隔层,且所述N型载子阻隔层的材质为N型氮化铝镓。
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