[发明专利]氮化物半导体结构及半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 201810450395.3 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN108550670B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 吴俊德;李玉柱 申请(专利权)人: 新世纪光电股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 中国台湾台南市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 氮化物 半导体 结构 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种氮化物半导体结构,其特征在于,包括:

一N型复合半导体层;

一发光层,位于所述N型复合半导体层上,并具有多重量子阱结构,其中所述多重量子阱结构由多个阱层与多个阻障层交替堆叠而成;以及

一P型复合半导体层,位于所述发光层上,其中所述P型复合半导体层包括邻近于所述发光层的空穴提供层、远离于所述发光层的P型半导体层与夹于所述空穴提供层与所述P型半导体层之间的一P型载子阻隔层,所述空穴提供层的能隙大于所述多重量子阱结构之所述阱层的能隙,所述空穴提供层的材质包括铟,且所述P型载子阻隔层的材质包括铝,所述空穴提供层紧邻所述发光层,且所述空穴提供层掺杂有浓度为1017-1020cm-3的第四主族元素,所述第四主族元素为碳;所述空穴提供层还掺杂有浓度大于1018cm-3的P型掺质,所述P型掺质为镁。

2.如权利要求1所述的氮化物半导体结构,其特征在于,所述N型复合半导体层包括邻近于所述发光层的一N型载子阻隔层,且所述N型载子阻隔层的材质为N型氮化铝镓。

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