[发明专利]一种高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理工艺及设备

权利要求书

1.一种高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理工艺，其特征在于，包括微蚀、水洗和干燥三个步骤，所述的微蚀是将载体超薄铜箔（6）浸入微蚀槽（8）中进行表面电沉积微蚀，微蚀槽（8）中是温度为50℃，电流密度为0.8A/dm2的复合电镀液，所述的复合电镀液是由锌、铝、锡三种金属离子与氢氧化钠、柠檬酸钠、盐酸多巴胺复配而成，温度为50-60℃，电流密度为0.8-1.2A/dm2，溶液中各组成的浓度为：锌离子12g/L、铝离子6g/L、锡6g/L，氢氧化钠25g/L，柠檬酸钠4g/L，盐酸多巴胺3g/L。

2.一种高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理设备，包括微蚀槽（8）、水洗槽（11）和干燥槽（16），其特征在于，所述微蚀槽（8）的左侧和干燥槽（16）的右侧均设有侧支架（1），两个侧支架（1）之间跨设安装有横杆（2），所述横杆（2）上安装有横向驱动机构（3），横向驱动机构（3）由其内的伺服电机驱动沿着横杆（2）移动，所述横向驱动机构（3）的下侧安装有伸缩装置（4），伸缩装置（4）的下端安装有能够对载体超博铜箔（6）进行夹取的电动夹具（5），所述微蚀槽（8）的内底部安装有加热器（9），微蚀槽（8）内盛放有复合电镀液，微蚀槽（8）的内侧壁上还分别设有温度探测器（7）和电流密度探测器（10），所述水洗槽（11）的内侧设有水洗环管（13），水洗环管（13）的外侧与水洗槽（11）内壁固定连接，水洗环管（13）的内侧安装有若干喷水头（15），所述水洗环管（13）的下侧还设有清水管（12），清水管（12）从水洗槽（11）的底部伸出，所述干燥槽（16）的内侧设有干燥环管（18），干燥环管（18）的外侧与干燥槽（16）内壁固定连接，干燥环管（18）的内侧安装有若干喷气头（19），所述干燥环管（18）的下侧还设有热风管（17），热风管（17）从干燥槽（16）的底部伸出。

3.根据权利要求2所述的高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理设备，其特征在于，所述微蚀槽（8）、水洗槽（11）和干燥槽（16）均为上开口结构，微蚀槽（8）、水洗槽（11）和干燥槽（16）依次排布设置，且微蚀槽（8）和水洗槽（11）之间固定连接，水洗槽（11）和干燥槽（16）之间固定连接。

4.根据权利要求3所述的高延低峰值超薄铜箔的光面微蚀处理设备，其特征在于，所述水洗槽（11）的底部还设有带阀门的排水管（14）。