[发明专利]全自动数控履带减压定位衬砌机在审
| 申请号: | 201710901173.4 | 申请日: | 2017-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN107806067A | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
| 发明(设计)人: | 丁午育;李绍武;何金哲;李庆庆;郜建华;彭冲;张松强 | 申请(专利权)人: | 新疆北方建设集团有限公司 |
| 主分类号: | E02B5/02 | 分类号: | E02B5/02 |
| 代理公司: | 石河子恒智专利商标代理事务所(普通合伙)65102 | 代理人: | 李伯勤 |
| 地址: | 833200 新疆维吾尔自治*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 全自动 数控 履带 减压 定位 衬砌 | ||
技术领域
本发明属于水利机械领域,尤其是涉及一种全自动数控履带减压定位衬砌机
背景技术
随着我国水力工程建设的不断发展,修建的混凝土防渗渠道也越来越多,以往修建防渗渠道大多采用预制混凝土块现场铺设,这种预制混凝土块不可能做的太大,现场铺设的工程量很大,费时费力,并且工序复杂。
目前渠道机械化衬砌技术虽在国内外有一定的应用,主要是通过在待衬砌渠道的渠底和渠肩铺设轨道,衬砌机在轨道上行驶作业。但因轨道铺设、地形等原因,造成衬砌时的大致平整度欠缺,往往有的地方厚有的地方薄,对后续的切割工作造成很大影响,且整机被轨道限制,活动范围有限。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种全自动数控履带减压定位衬砌机,可自行进入场地,自行定位工作,省时省力,无需人工调整,适用性更强。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:包括两端机架、衬砌主机架(4)和控制台(2),其特征在于:在两端机架上设有履带行走机构(1),履带行走机构(1)设有两组,分别设置于两组两端机架上,同时设有定位控制机构(5),所述定位控制机构(5)包含主控制器CPU和至少两个光探头D1、D2和至少一个定位器D3,光探头D1、D2获取定位器D3的位置信息并输送到主控制器CPU,主控制器CPU根据光探头D1、D2与定位器D3之间的位置信息控制履带行走机构(1)的同步行进。
进一步地,所述的两端机架最好由固定架(31)和活动架(32)构成,固定架(31)与活动架(32)之间设有该液压升降机构(33),所述的固定架(31)设置于,履带行走机构(1),所述的主控制器CPU根据光探头D1、D2获取定位器D3的位置信息并输送到主控制器CPU,主控制器CPU根据光探头D1、D2与定位器D3之间的位置信息控制液压升降机构(33)动作,使两端机架的活动架(32)保持在一个相对稳定的位置。
再进一步地,上述的定位控制机构(5)的光探头D1、D2可以为激光、红外、远红外以其它光探测器,优选为激光和远红外光探测器中的一种。
本发明通过为履带行走机构与定位控制系统相配合,无需人工调整,整机的作业限制更少,可自由出入场地和进行作业,大大提高衬砌机头尾部的协调和作业的精度,保证作业质量,提高作业效率,与现有技术相比,本发明在衬砌工作时可以随时检测反馈整机是否达到工作最佳平衡,省时省力,无需人工调整,机架自动由采集的数据进行调整,适用性更强。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1为本发明实施例1的结构示意图。
图2为本发明实施例1履带行走机构的结构示意图。
图3为本发明实施例1定位控制机构的结构示意图。
图中所示:履带1,控制台2,固定架31,活动架32,液压升降机构33,衬砌主机架4,定位控制机构5,
电路图中:电路图中:中央控制器CPU,驱动器M1-M4,光探头D1、D2,定位器D3。
具体实施方式
实施例1:参照图1-3,为本发明实施例1的结构示意图,包括两端机架、衬砌主机架4和控制台2,在两端机架上设有履带行走机构1,履带行走机构1设有两组,分别设置于两组两端机架上,同时设有定位控制机构5,所述定位控制机构5包含主控制器CPU、两个光探头D1、D2和一个定位器D3,光探头D1、D2获取定位器D3的位置信息并输送到主控制器CPU,主控制器CPU根据光探头D1、D2与定位器D3之间的位置信息控制履带行走机构1的同步行进。
所述的两端机架由固定架31和活动架32构成,固定架31与活动架32之间设有该液压升降机构33,所述的固定架31设置于,履带行走机构1,所述的主控制器CPU根据光探头D1、D2获取定位器D3的位置信息并输送到主控制器CPU,主控制器CPU根据光探头D1、D2与定位器D3之间的位置信息控制液压升降机构33动作,使两端机架的活动架32保持在一个相对稳定的位置。
上述的定位控制机构5的光探头D1、D2可以为激光、红外、远红外以其它光探测器,优选为激光和远红外光探测器中的一种。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变化和改进,这些都属于本发明的保护范围。
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