[发明专利]双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装在审

专利信息
申请号: 201710769830.4 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107350862A 公开(公告)日: 2017-11-17
发明(设计)人: 胡斌杰 申请(专利权)人: 凡尔机械集团有限公司
主分类号: B23Q3/08 分类号: B23Q3/08
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司34107 代理人: 张永生
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 双面 铣床 插销 通用 夹紧 工装
【说明书】:

技术领域

发明涉及铣削加工技术领域,尤其是涉及一种双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装。

背景技术

现有的双面铣床用铣插销槽夹紧工装多通过紧固件以及压板压紧定位,一次只能对一件产品压紧定位加工,加工效率低,定位压紧安装以及拆卸繁琐,加工精度难以保证。

发明内容

针对现有技术不足,本发明所要解决的技术问题是提供一种双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装,以达到夹紧定位效率高的目的。

为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案为:

该双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装,包括底板,还包括侧立柱、缸体集成板以及用于夹紧待加工产品的一组活塞组件,所述侧立柱的底端设在底板上,缸体集成板设在侧立柱的顶端,一组活塞组件设在缸体集成板中。

进一步的,所述底板的板面和缸体集成板的板面相平行设置。

所述侧立柱为并排设置的一对,分别设置在底板端部上。

所述缸体集成板的上方设置有缸体盖板,缸体盖板中设有与活塞组件相连的液压通道。

所述底板上设有与侧立柱的底端相配合的凹槽,侧立柱的顶端与缸体集成板台阶配合定位。

所述底板上设有条形凹槽。

所述活塞组件和待加工产品之间设有垫块。

所述底板上设有垫铁。

所述一个侧立柱上设有侧缸体集成板,侧缸体集成板上设有用于侧面夹紧待产品的侧活塞组件。

所述侧立柱上设有进液板,侧立柱上设有与侧缸体集成板和顶部的缸体集成板的活塞组件相连的内置通道,内置通道与设在进液板上的进液口相连。

本发明与现有技术相比,具有以下优点:

该双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装结构设计合理,工装结构紧凑,通用性强,一次性装夹可加工多件产品,工作效率高,装夹操作简便,降低了操作者的工作强度,可保证加工精度,容易保证产品同一性,提高产品合格率。

附图说明

下面对本说明书各幅附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1为本发明夹紧工装结构示意图。

图中:

1.缸体盖板、2.接头、3.缸体集成板、4.螺栓、5.活塞组件、6.侧立柱Ⅰ、7.进液板、8.底板、9.定位块、10.垫铁、11.侧立柱Ⅱ。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

如图1所示,该双面铣床用铣插销槽通用夹紧工装,包括底板8、侧立柱、缸体盖板1、缸体集成板3以及用于夹紧待加工产品的一组活塞组件5。

侧立柱为并排设置的一对,分别设置在底板端部上,分部为侧立柱Ⅰ6和侧立柱Ⅱ11。侧立柱的底端设在底板8上,缸体集成板3设在侧立柱的顶端,底板上设有与侧立柱的底端相配合的凹槽,侧立柱的顶端与缸体集成板台阶配合定位,定位可靠,结构强度能够保证,夹紧稳定性好。

一组活塞组件5设在缸体集成板3中,缸体集成板的上方设置有缸体盖板1,缸体盖板1中设有与活塞组件相连的液压通道,并通过缸体盖板对活塞组件限位,提高工作稳定性。

缸体集成板3为一整体板结构,缸体盖板1可以为多块板,相邻的缸体盖板配合定位在缸体集成板上,缸体盖板通过螺栓4固定在缸体集成板上,相邻的缸体盖板中的液压通道通过接头2相连。

底板8的板面和缸体集成板3的板面相平行设置,保证夹紧的稳定性;底板端部的下面设有定位块9,定位块与底板之间通过紧固件相连,定位可靠。

活塞组件5和待加工产品之间设有垫块,底板上设有垫铁10,活塞组件的活塞不直接作用在待加工产品上,保护待加工产品,防止压伤,并且受力面积大,夹紧稳定可靠。

底板8上设有条形凹槽,以及垫铁便于设有台阶,便于排削。两侧立柱之间下部设有限位条板,通过限位条板对待加工产品定位,提高加工精度。

侧立柱Ⅰ6上设有侧缸体集成板,侧缸体集成板位于侧立柱Ⅰ,侧缸体集成板上设有用于侧面夹紧待产品的侧活塞组件,提高夹紧定位的可靠。

侧立柱上设有进液板7,侧立柱上设有与侧缸体集成板和顶部的缸体集成板的活塞组件相连的内置通道,内置通道与设在进液板上的进液口相连。通过进液板7的进液来控制位于顶部的活塞组件和侧活塞组件同步工作,夹紧稳定可靠。

通用性强,一次性装夹可加工多件产品,工作效率高,装夹操作简便,降低了操作者的工作强度,可保证加工精度,容易保证产品同一性,提高产品合格率。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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