[发明专利]一种柔性电润湿显示器及其制备方法在审
| 申请号: | 201510829930.2 | 申请日: | 2015-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN105372812A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
| 发明(设计)人: | 唐彪;蒋洪伟;罗伯特·安德鲁·海耶斯;吴昊;李寿明;周蕤;周国富 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
| 主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00 |
| 代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明 |
| 地址: | 510631 广东省广州市大学城*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 柔性 润湿 显示器 及其 制备 方法 | ||
1.一种柔性电润湿显示器,包括相对设置的柔性上导电基板和柔性下导电基板,所述下导电基板包括疏水绝缘层和设于疏水绝缘层上表面的像素墙结构,其特征在于,所述像素墙结构包括设于所述疏水绝缘层上表面的像素墙结构一和设于所述像素墙结构一上的像素墙结构二,所述像素墙结构二与非封装胶框区域的所述像素墙结构一图案相同,所述像素墙结构二的亲水性强于所述像素墙结构一的亲水性。
2.根据权利要求1所述的柔性电润湿显示器,其特征在于,所述像素墙结构一的高度5-8μm,所述像素墙结构二的高度是所述像素墙结构一的高度的3-5倍。
3.根据权利要求1所述的柔性电润湿显示器,其特征在于,所述像素墙结构一的材料的水滴的前进接触角为60°-70°,水滴的后退接触角为35°-40°。
4.根据权利要求1所述的柔性电润湿显示器,其特征在于,所述像素墙结构二的材料的水滴的前进接触角为30°-40°,水滴的后退接触角为0°-10°。
5.一种柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,包括制备双层像素墙结构的步骤,所述双层像素墙结构包括设于所述疏水绝缘层上表面的像素墙结构一和设于所述像素墙结构一上的像素墙结构二,所述像素墙结构二与非封装胶框区域的所述像素墙结构一图案相同,所述像素墙结构二的亲水性强于所述像素墙结构一的亲水性。
6.根据权利要求5所述的柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,所述制备双层像素墙结构的步骤包括:
在柔性下导电基板的疏水绝缘层上涂覆亲水性材料一,干燥,固化;
在所述亲水性材料一上涂覆亲水性材料二,所述亲水性材料二的亲水性强于所述亲水性材料一,干燥,固化;
通过光刻或刻蚀工艺在所述疏水绝缘层上制备得到由所述亲水性材料一制得的像素墙结构一以及由所述亲水性材料二制得的像素墙结构二,所述像素墙结构二与非封装胶框区域的所述像素墙结构一图案相同。
7.根据权利要求5所述的柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,所述制备双层像素墙结构的步骤包括:
在柔性下导电基板的疏水绝缘层上涂覆亲水性材料一,干燥,固化;
通过光刻或刻蚀工艺在所述疏水绝缘层上制备得到由所述亲水性材料一制得的像素墙结构一;
采用亲水性材料二通过丝网印刷、喷墨打印、光刻或刻蚀工艺在所述柔性上导电基板的导电层上制备像素墙结构二,所述亲水性材料二的亲水性强于所述亲水性材料一,所述像素墙结构二与非封装胶框区域的所述像素墙结构一图案相同,所述像素墙结构一与所述像素墙结构二的高度之和等于电润湿显示器上下导电基板之间的盒间距;
填充油墨和电解质溶液;
将所述像素墙结构一与所述像素墙结构二精准对位,将所述柔性上下导电基板对位贴合封装。
8.根据权利要求5-7任一项所述的柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,所述像素墙结构一的高度5-8μm,所述像素墙结构二的高度是所述像素墙结构一的高度的3-5倍。
9.根据权利要求5-7任一项所述的柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,所述亲水性材料一的水滴的前进接触角为60°-70°,水滴的后退接触角为35°-40°。
10.根据权利要求5-7任一项所述的柔性电润湿显示器的制备方法,其特征在于,所述亲水性材料二的水滴的前进接触角为30°-40°,水滴的后退接触角为0°-10°。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院,未经华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510829930.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





