[发明专利]低辐射自清洁玻璃制备工艺在审
| 申请号： | 201510716548.0 | 申请日： | 2015-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN105347695A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | 陆志文 | 申请（专利权）人： | 苏州市灵通玻璃制品有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215153 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 清洁 玻璃 制备 工艺 | ||
1.一种低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）制备A液，A液为以下两份溶液的混合：a:SnCl2·2H2O与无水甲醇以摩尔比为1:20-30混合均匀，回流1-2h；b:CdCl3·6H2O溶于无水甲醇中；
（2）制备B液，TiO2溶胶：将钛酸丁酯，蒸馏水，氨水和无水甲醇混合超声后，加入纳米氧化铋粉末，超声10-20min；
（3）制备功能膜：将待镀膜玻璃加热至380-420℃，将A液用喷雾热分解法在玻璃表面制膜；
（4）制备自清洁膜：将步骤（3）所得玻璃升温至500-550℃后再喷涂B液，温控烘干。
2.根据权利要求1所述的低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，步骤（1）中Sn:Cd的摩尔比为1:0.05-0.5。
3.根据权利要求1所述的低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，步骤（2）中钛酸丁酯，蒸馏水，氨水和无水甲醇的摩尔比为：1：10：0.01：50。
4.根据权利要求1所述的低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，步骤（2）中加入纳米氧化铋粉末的质量是所加钛酸丁酯质量的5-10%。
5.根据权利要求1所述的低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，步骤（3）中喷雾气压为4-4.5bar，喷枪沿玻璃的移动速度为2-2.5mL/s。
6.根据权利要求1所述的低辐射自清洁玻璃制备工艺，其特征在于，功能膜厚度为50-65nm，自清洁膜厚度为80-100nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市灵通玻璃制品有限公司，未经苏州市灵通玻璃制品有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510716548.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
