[发明专利]一种多芯片边胶去除装置有效

专利信息
申请号: 201510607502.5 申请日: 2015-09-22
公开(公告)号: CN105137727B 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 施长治;林春 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42;G03F9/00;H01L21/67
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 去除 装置
【权利要求书】:

1.一种多芯片边胶去除装置,包括光刻掩膜版(1)和样品吸盘(2),其特征在于:

所述的光刻掩膜版(1)上有一个覆盖整个光刻版的十字图形(3),十字图形(3)内部整体为透光,其外部区域为不透光,其宽度根据实际工艺中光致抗蚀剂堆积产生的边胶区域宽度最大值来进行设定,十字图形(3)内部有四个长条形的对版标记(4);所述的对版标记(4)为不透光并呈十字排列,其对称中心为十字图形(3)的中心,每条对版标记的两端或近对称中心一端有对准图案;

所述的样品吸盘(2)上表面中央有四个长条形定位凸台(5),呈十字排列;相邻凸台间所夹的区域开有吸盘孔(6),用于吸附芯片;样品吸盘(2)背面作抛光处理,使其具有良好的真空吸附性;所述的定位凸台(5)的侧壁与样品吸盘(2)上表面夹角成90°;定位凸台(5)高度小于待去边胶的芯片厚度;定位凸台(5)宽度大于对版标记(4)的宽度,且小于十字图形(3)宽度与芯片边胶区域宽度的2倍之差;定位凸台两端为三角形,与对版标记(4)两端的对准图案有套准关系。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510607502.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top