[发明专利]一种立体艺术瓷砖和其加工工艺及其应用

权利要求书

1.一种立体艺术瓷砖，其特征在于包括多个部件，每个部件包括一个由泥料调配的立体胚体，在胚体的上表面覆盖有釉体，所述的胚体的下表面设有具有吸粘合作用的物质，所述的立体胚体具有预定厚度，所述的各部件具有可互相吻合形成图形的形状，所述的立体胚体下表面开设一孔，且立体胚体内部为空心，所述的具有吸粘合作用的物质为魔术贴，所述的部件的形状为正方形，三角形，正六边形，梯形，圆形，曲边四角星，梭形，月牙形，双刃斧形的一种或多种；该立体艺术瓷砖的加工工艺，包括如下步骤：

1. 调配泥料，往模具中注浆，晾干，于750~850℃素烧制得立体胚体；

2. 根据设计的图形喷涂釉料，进窑于1200~1400℃下进行高温烧制，出窑，自然冷却；

3. 将烧制好的胚体的下表面用粘合剂黏上魔术贴的圆毛面或磁体；

所述的泥料包括滑石子、高岭土、潮洲老师泥和618陶土，其重量百分比为10~25%、高岭土10~25%、潮洲老师泥15~35%、618陶土40~60%；

所述的釉料包括离子釉，陶石粉、钠长石、金红石、石英、天然锂瓷石、高岭土、萤石粉、氧化铁粉、碳酸锰、氧化铜、氧化金，其重量百分比为陶石粉10~12%、钠长石3~6%、金红石5~10%、石英20~30%、天然锂瓷石15~18%、高岭土12~185、萤石粉15~20%、氧化铁粉2~9%、碳酸锰8~12%、氧化铜5~9%、氧化金4~6%，将上述的各成分磨釉25~35hr。

2.根据权利要求1所述的一种立体艺术瓷砖，其特征在于所述的立体胚体的预定厚度为1~2cm。

3.根据权利要求1所述的一种立体艺术瓷砖，其特征在于所述的立体胚体的烧制温度为800℃素烧制得；所述的釉料的进窑温度为1350℃。

4.一种如权利要求1所述的立体艺术瓷砖的应用，其特征在于包括将墙体或木板上铺魔术贴的刺毛面或制作成金属体。