[发明专利]光刻胶和方法

权利要求书

1.一种光刻胶，包括：

烃主链；

高抗蚀刻结构，通过所述烃主链内的碳原子和所述高抗蚀刻结构的环部分之间的碳-碳键的单链附接至所述烃主链；以及

将分解的基团，键合至所述高抗蚀刻结构，其中，所述高抗蚀刻结构具有以下结构中的一种：

其中，R₁是甲基基团、乙基基团、丙基基团、异丙基基团、丁基基团、异丁基基团、戊基基团或异戊基基团；以及R₃是C1至C3亚烷基链，并且其中，R₂具有以下结构中的一种：

其中，R₄和R₅是亚甲基基团、亚乙基基团、亚丙基基团、亚丁基基团、亚戊基基团、亚异丙基基团或亚异丁基基团，并且其中，R₆是将分解的基团。

2.根据权利要求1所述的光刻胶，还包括具有交联位点的非离去单体。

3.根据权利要求2所述的光刻胶，其中，所述交联位点具有以下结构：

其中，R₁₄是H、OH、OCH₃、OC₂H₅、OC₃H₇、OC₄H₉、环氧基、CH₂OCH₃、CH₂OC₂H₅、CH₂OC₃H₇、CH₂OC₄H₉、CH₂CH₂OCH₃、CH₂CH₂OC₂H₅、CH₂CH₂OC₃H₇或CH₂CH₂OC₄H₉，并且其中，R₁₅是C1至C5亚烷基链。

4.根据权利要求3所述的光刻胶，其中，所述将分解的基团具有以下结构：

其中，R₁₈是氢、甲基基团、乙基基团、丙基基团、异丙基基团、丁基基团、异丁基基团或异戊基基团，以及R₁₉是环氧基基团、醇基基团、氨基基团或羧酸基基团。

5.根据权利要求2所述的光刻胶，还包括交联剂。

6.根据权利要求5所述的光刻胶，其中，所述交联剂具有以下结构：

其中，R₂₅是氢、环氧基、CH₂OCH₃、CH₂OC₂H₅、CH₂OC₃H₇、CH₂OC₄H₉、CH₂CH₂OCH₃、CH₂CH₂OC₂H₅、CH₂CH₂OC₃H₇或CH₂CH₂OC₄H₉。