[发明专利]半导体器件以及半导体器件的制造方法有效
| 申请号: | 201480077989.4 | 申请日: | 2014-04-14 |
| 公开(公告)号: | CN106233462B | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
| 发明(设计)人: | 渡边真司;木田刚;小野善宏;森健太郎;坂田贤治;山田裕介 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
| 主分类号: | H01L25/065 | 分类号: | H01L25/065;H01L25/07;H01L25/18 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;闫剑平 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480077989.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体装置及其制造方法
- 下一篇:带贯通电极的半导体芯片用粘接膜
- 同类专利
- 专利分类





