[实用新型]就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置

权利要求书

1.一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于包括：

探测器定位组件，贴合所述就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置，用于固定所述探测器的位置；

刻度源放置轨道，所述刻度源放置轨道为0～90°的弧形，在刻度源放置轨道上，在光子入射角θ＝0°和θ＝90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔；以及

刻度源放置轨道定位组件，紧贴所述刻度源放置轨道，用于固定所述刻度源放置轨道的位置。

2.根据权利要求1所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，所述探测器定位组件进一步包括探测器固定组件、探测器固定斜拉板和探测器探头晶体端水平定位板。

3.根据权利要求1所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，进一步包括：

探测器探头晶体准直组件，与探测器探头晶体相邻放置，具有用于控制所述探测器探头晶体的水平位置的第一调节旋钮和用于控制所述探测器探头晶体的垂直位置的第二调节旋钮。

4.根据权利要求1所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，所述刻度源放置轨道定位组件进一步包括至少两个轨道固定杆、连接到轨道固定杆的固定旋钮和连接到立柱的固定旋钮。

5.根据权利要求4所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，进一步包括：

刻度源放置轨道准直组件，用于对所述刻度源放置轨道的位置进行调节，包括与所述连接到立柱的固定旋钮连接的轨道垂直位置调节旋钮和连接到所述至少两个轨道固定杆的轨道水平位置调节旋钮。

6.根据权利要求1所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，所述一定间隔为5°。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于，所述刻度源放置轨道和所述刻度源放置孔采用聚四氟乙烯材料制成。