[实用新型]光刻胶显影装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种显影装置，具体是一种光刻胶显影装置。

背景技术

PSS（Patterened Sapphire Substrate）制作工序中光刻工艺是比较重要的一环，该光刻工艺分为涂布、曝光和显影三个步骤。该显影的设备为光刻胶显影装置。

该光刻胶显影装置位于晶圆1垂直上方，通过喷嘴3向整片晶圆1上喷淋显影液，完成显影步骤。在显影液喷淋下来的同时，晶圆1表面会产生细小气泡4。如图2所示，这些细小气泡4虽然会在显影工艺后旋转烘烤的过程中借助旋转动作向晶圆1外侧移动，但仍有部分气泡4没有向晶圆1外侧移动，而是残留在晶圆1的图案2之间。如果不清除这些气泡，可能会引发图案2变形，或影响后续蚀刻工艺，不能蚀刻出正确图案等问题，严重地影响了产品的质量和产量。

实用新型内容

针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种光刻胶显影装置，有效地减少在显影工艺中产生的气泡。

为了实现上述目的，本实用新型的一种光刻胶显影装置，包括显影罐、缓存槽、流量计、过滤器、气动阀及喷嘴，显影罐、缓存槽、流量计、气动阀及喷嘴依次通过管道连通，缓存槽的出口处设置过滤器，其中喷嘴为锯齿形喷嘴。

进一步，还包括气吹喷头，气吹喷头活动连接在锯齿形喷嘴上，其与气体管路一体成形。

优选地，锯齿形喷嘴中锯齿个数至少为3个。

优选地，锯齿形喷嘴中锯齿的高度为4～5mm。

优选地，锯齿形喷嘴中锯齿间距为1～1.5mm。

显影工艺是将显影液通过喷嘴喷淋在晶圆表面上，由于喷嘴为锯齿形，有效地减少了在喷淋之前形成的细小气泡，也减少了残留在晶圆图案间的气泡，消除了图案的变形，为后续地蚀刻工艺提供清晰的图案，提高了产品的质量和产量。

附图说明

图1是本实用新型的组成示意图；

图2是现有技术中喷嘴的结构示意图；

图3是本实用新型中喷嘴的结构示意图。

图中：1、晶圆，2、图案，3、喷嘴，4、气泡，5、锯齿形喷嘴。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图3所示，本实用新型的一种光刻胶显影装置，包括显影罐、缓存槽、流量计、过滤器、气动阀及喷嘴，显影罐是储存显影液的罐子，缓存槽为减少气泡的产生而设置的，流量计是调节显影液压力的装置，气动阀是调节显影液流量的装置，喷嘴是喷洒显影液的结构，该显影罐、缓存槽、流量计、气动阀及喷嘴依次通过管道连通，缓存槽的出口处设置过滤器，该过滤器可以进一步地减少异物质及气泡，其中喷嘴为锯齿形喷嘴5。

PSS制作工序中光刻工艺是指在蓝宝石晶片上刻制图案的工艺。光刻胶涂抹后，借助高速旋转动力完成涂布，继而进行软烘烤；然后进行曝光、焙烘；最后显影、烘烤。因此，光刻工艺分为涂布、曝光、显影三个步骤。

显影工艺中，通过喷嘴向整片晶圆1上喷淋显影液，完成显影步骤。锯齿形喷嘴5破坏了气泡4表面的张力，有效地减少了在喷淋之间形成的气泡4，进一步地减少了残留在晶圆1的图案2间的气泡4，消除了图案2的变形，为后续地蚀刻工艺提供清晰的图案，提高了产品的质量和产量。

进一步，本实用新型的光刻胶显影装置在锯齿形喷嘴5上设置气吹喷头，该气吹喷头活动连接在锯齿形喷嘴5上，其与气体管路一体成形。在操作工艺过程中，锯齿形喷嘴5向晶圆1上喷淋显影液后，打开气体管路，则气吹喷头喷出气体对涂覆在晶圆1表面上产生的气泡4进行吹拂，一方面使显影液均匀分散在晶圆1表面，另一方面可以进一步地清除少量残留在晶圆1的图案2间的气泡4。

优选地，锯齿形喷嘴5中锯齿个数至少为3个；锯齿形喷嘴5中锯齿的高度为4～5mm；锯齿形喷嘴5中锯齿间距为1～1.5mm；该结构的锯齿形喷嘴5有效地消除了在喷淋之间形成的气泡4，清除了残留在晶圆1的图案2间的气泡4。