[发明专利]高导热性金属电路半导体制冷片及其加工方法

权利要求书

1.高导热性金属电路半导体制冷片，其特征在于至少包括两层叠层式排列的具有类钻碳镀膜的金属基板，在相邻的两层具有类钻碳镀膜的金属基板之间设置若干半导体制冷晶粒和若干导流片，所述导流片分别焊接在类钻碳金属基板上，所述半导体制冷晶粒通过导流片串联电连接。

2.根据权利要求1所述高导热性金属电路半导体制冷片，其特征在于所述具有类钻碳镀膜的金属基板的厚度为0.5～5mm，具有类钻碳镀膜的金属基板的导热系数为10～475W/m.k。

3.根据权利要求1所述高导热性金属电路半导体制冷片，其特征在于所述具有类钻碳镀膜的金属基板中金属为铝、铜、钢、铁、合金中的任意一种。

4.如权利要求1所述高导热性金属电路半导体制冷片的加工方法，其特征在于包括以下步骤：

1）通过刻蚀具有类钻碳镀膜的金属基板上的导电层，使其裸露出蚀刻图形的线路作为焊盘，将导流片焊接在焊盘上；

2）将分别焊接有导流片的两块具有类钻碳镀膜的金属基板叠层式放置，并将焊接有导流片的具有类钻碳镀膜的金属基板面相对布置；将一个N型半导体制冷颗粒和一个P型半导体制冷颗粒组成一个电偶对，电偶对的一面焊接在所述两块具有类钻碳镀膜的金属基板的一块钻碳金属基板的导流片上，该电偶对的另一面焊接在所述两块具有类钻碳镀膜的金属基板的另一块具有类钻碳镀膜的金属基板的导流片上。