[发明专利]用于光刻设备的对准系统和方法

权利要求书

1.一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，包括：

光源模块，所述光源模块用于提供照明光束；

照明模块，所述照明光束经所述照明模块并经过一数字微镜器件，所述数字微镜器件用于形成与所述对准标记匹配的参考光栅；

   成像模块，经过数字微镜器件的光束经过成像模块和参考光栅后入射到对准标记面，所述参考光栅受所述对准标记调制后光束发生干涉形成莫尔条纹，所述成像模块收集携带莫尔条纹的光强信号的干涉光；

   探测模块，探测所述莫尔条纹的光强信号并根据所述光强信号确定对准位置信息。

2.如权利要求1所述的对准系统，其特征在于，所述光源模块包括第一光源模块和第二光源模块，所述第一光源模块用于提供第一波长光束，所述第二光源模块用于提供不同于第一波长的第二波长光束，两种波长光束均通过各自的照明模块和数字微镜器件后一同进入共同的成像模块，每个数字微镜器件分别形成各自的参考光栅，每个波长的光束形成各自的莫尔条纹后被成像模块收集再分别进入各自的探测模块。

3.如权利要求1所述的对准系统，其特征在于，所述照明模块沿光束传播的方向依次包括扩束准直元件、反射镜。

4.如权利要求1所述的对准系统，其特征在于，所述成像模块沿光束传播的方向依次包括偏振分光棱镜和一投影物镜。

5.如权利要求2所述的对准系统，其特征在于，所述激光光源为635nm红色激光光源和532nm绿色激光光源。

6.如权利要求3所述的对准系统，其特征在于，所述反射镜为20度入射角控制反射镜。

7.一种采用权利要求1至6任一项所述的用于光刻设备的对准系统的对准方法，其特征在于，将所述参考光栅的位相沿所述对准标记的光栅栅距方向进行平移调制，形成所述莫尔条纹后，根据所述平移信息和光强信号进行最小二乘法拟合以确定对准位置信息。