[发明专利]蚀刻液组合物的应用以及蚀刻方法

权利要求书

1.蚀刻液组合物，其用于对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻，其由包含以下物质的水溶液形成，

(A)高铁离子成分、

(B)氯化氢成分、和

(C)选自下述通式(1)表示的化合物和碳数1～4的直链或支链状醇的至少1种以上的化合物成分，

式(1)中，R¹、R³各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，R²表示碳数1～4的直链或支链状亚烷基，n表示1～3的数。

2.权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，通式(1)表示的化合物为选自下述通式(2)表示的化合物或碳数3～4的支链状醇的至少1种以上的化合物成分，

式(2)中，R¹、R³各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，n表示1～3的数。

3.权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其中，所述(C)成分至少包含二丙二醇单甲醚或异丙醇。

4.权利要求1～3任一项所述的蚀刻液组合物，其还含有选自稳定剂、(A)、(B)或(C)成分的增溶剂、消泡剂、pH调节剂、比重调节剂、粘度调节剂、润湿性改良剂、螯合剂、氧化剂、还原剂和表面活性剂中的1种或2种以上的添加剂。

5.权利要求4所述的蚀刻液组合物，其中，添加剂为还原剂。

6.蚀刻方法，其为对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻的蚀刻方法，作为蚀刻液组合物，其使用权利要求1～5任一项所述的蚀刻液组合物。

7.权利要求6所述的蚀刻方法，其中，氧化铟系膜为选自氧化铟膜、铟-锡氧化物膜以及铟-锌氧化物膜的1层以上的膜。

8.权利要求6或7所述的蚀刻方法，其中，金属系膜为包括金属膜和/或合金膜的1层以上的膜，所述金属膜的金属选自铜、镍、钛、铬、银、钼、铝、铂和钯，所述合金膜含有选自铜、镍、钛、铬、银、钼、铝、铂和钯的2种以上的金属。