[发明专利]真空辅助的狭缝模具涂覆技术

权利要求书

1.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：

将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底的移动幅材上，以在所述基底上形成所述湿膜，所述湿膜具有相对于所述基底的宽度和厚度；

在所述狭缝模具的所述排出端附近施加真空力；和

在施加所述涂料的同时，实时调节所述真空力，以控制所述湿膜的所述宽度和/或厚度。

2.权利要求1的方法，其进一步包括检测所述湿膜的宽度，且其中响应于确定所述宽度对应于不同于预定值的值而进行所述真空力的调节。

3.权利要求1或2的方法，其中所述基底是由聚合物材料形成的，在其上可以布置有多个电极图案。

4.权利要求1、2或3的方法，其中施加所述真空力包括将真空箱布置在所述狭缝模具的所述排出端附近，所述真空箱包括彼此相对布置并且位于所述湿膜上游的一对真空出口。

5.前述任一项权利要求的方法，其进一步包括保持所述狭缝模具与所述移动幅材之间的涂覆间隙恒定。

6.前述任一项权利要求的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。

7.前述任一项权利要求的方法，其中施加所述真空力在所述排出端的上游侧和所述排出端的下游侧之间产生了压力差。

8.一种用于将湿膜(15)施加到基底(16)上的设备(10)，其包括：

狭缝模具(22)，其可邻近所述基底布置并且包括排出端(35)，涂料(12)可以从所述排出端(35)排出到所述基底上以形成所述湿膜；和

空气压力调节系统(100)，所述系统可以运行来通过当将所述涂料排出到所述基底上时调节所述狭缝模具的所述排出端附近的空气压力，来控制所述湿膜相对于所述基底的宽度和厚度。

9.权利要求8的设备，其中所述空气压力调节系统包括至少部分包围所述狭缝模具的所述排出端的围隔(58)，和与所述围隔相连的真空源(23)。

10.权利要求8或9的设备，其进一步包括：

传感器(110)，其配置来测定所述湿膜的宽度(W)和提供相应的代表所述宽度的传感器信号；和

控制器(120，140)，当所述传感器信号代表了对应于不同于预定值的值的宽度时，所述控制器响应于所述传感器信号来调节通过所述真空源施加到所述围隔上的真空量。

11.权利要求9或10的设备，其中所述真空源是在所述湿膜上游的位置与所述围隔连接的。

12.权利要求11的设备，其中所述围隔包括彼此相对布置的一对真空出口。

13.权利要求8-12任一项的设备，其进一步包括与所述狭缝模具的所述排出端流体连通的存储器(21)，所述存储器含有一定量的所述涂料，和所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。

14.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：

将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底上，以在所述基底上形成所述湿膜；

通过调节所述狭缝模具的上游侧和所述狭缝模具的下游侧之间存在的压力差来控制所述湿膜相对于所述基底的厚度；和

在控制所述湿膜厚度的同时，保持所述狭缝模具的所述排出端与所述基底之间的涂覆间隙恒定。

15.权利要求14的方法，其中调节所述压力差包括改变施加到所述狭缝模具的所述上游侧附近的真空量。

16.权利要求14或15的方法，其中调节所述压力差是响应于确定所述湿膜宽度对应于不同于预定值的值而进行的。

17.权利要求14、15或16的方法，其进一步包括相对于所述狭缝模具移动所述基底，和在控制所述湿膜厚度的同时保持所述基底相对于所述狭缝模具的移动速率恒定。

18.权利要求14-17任一项的方法，其进一步包括在控制所述湿膜厚度的同时保持所述涂料流过所述狭缝模具的流速恒定。

19.权利要求14-18任一项的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。