[实用新型]应用于提升超临界流体技术效能的雾化结构

权利要求书

1.一种应用于提升超临界流体技术效能的雾化结构，包含反应空间、流体供应容器、低温装置、加压装置及气体回收装置，该反应空间为封闭空间，可置放组件或原料，并维持一流体的临界压力及临界温度；该流体供应容器提供一液态保存的流体，由一管路连通至该反应空间；该低温装置为制造低温源的冷冻机件，用以将流体降温至一预设温度；其特征在于：该结构还包括升温喷头，该加压装置包括用以将流体加压达临界压力的加压泵，该升温喷头包括用以将流体加热至临界温度的加热线圈、及将流体以雾状冲击于待处理组件的喷嘴，该加热线圈圈绕于该升温喷头主体外围，该喷嘴设置于该反应空间内；该气体回收装置包括回收回路、过滤器与泄压阀，设于该反应空间与该加压泵前段的管路间；当该反应空间内压力过高，令流体经过该泄压阀及过滤器回流到加压泵前段的管路。

2.如权利要求1所述的应用于提升超临界流体技术效能的雾化结构，其特征在于：所述反应空间包括用以释放液体及空间压力的排放阀。

3.如权利要求1所述的应用于提升超临界流体技术效能的雾化结构，其特征在于：所述加压装置包括安全阀及回流管，当管路压力超过安全值时，流体通过安全阀经回流管回流至加压泵的前段管路间。