[发明专利]用于连续基底的常压等离子处理的机器和方法

权利要求书

1.一种用于连续基底的常压等离子处理的机器，包括：用于进给基底（3）的装置（6），用于沿着进给路径（A）移动所述基底（3）；至少两个电极（4），每个电极（4）定位在所述基底（3）的一个面（5）处，电势差可施加在所述电极（4）上，以产生放电；其特征在于，进给装置（6）包括至少一个第一辊（7）和一个第二辊（8），所述第一辊和第二辊（7，8）与相应的电极（4）重合，并且每个辊作用于所述基底（3）的相应的面（5）上。

2.根据权利要求1所述的机器，其特征在于，所述进给装置（6）包括所述第一辊（7）的阵列和所述第二辊（8）的阵列，所述阵列彼此一起作用于所述基底（3）上，以沿着所述进给路径（A）传送所述基底（3）。

3.根据权利要求2所述的机器，其特征在于，每个第一辊（7）被操作地定位在两个第二辊（8）之间。

4.根据前述权利要求中任一项所述的机器，其特征在于，所述进给装置（6）包括至少一个作用于所述第一辊（7）和所述第二辊（8）上用于驱动它们旋转的电机。

5.根据前述权利要求中任一项所述的机器，其特征在于，所述机器包括室（2）和用于将气流引入所述室（2）中的装置。

6.根据前述权利要求中任一项所述的机器，其特征在于，所述机器包括至少一个与转移装置（11）操作地连续定位的室（2），所述转移装置（11）作用于所述基底（3）上并操作地定位于所述室（2）之外，以使所述基底（3）转移通过所述室（2）。

7.一种用于连续基底的常压等离子处理的方法，包括以下步骤：沿着进给路径（A）进给基底（3）；产生放电并对处理区域中的所述基底（3）施加常压等离子体，其特征在于，通过施加在所述处理区域中分布的力而产生进给所述基底（3）的步骤。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法包括在处理步骤的过程中冷却辊（7，8）的步骤。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，所述方法包括当将所述基底（3）定位在所述处理区域（9）中时在所述处理区域（9）中引导气流的步骤。