[发明专利]化学沉铜溶液循环过滤系统及方法有效
| 申请号: | 201010268942.X | 申请日: | 2010-08-31 |
| 公开(公告)号: | CN102029089A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
| 发明(设计)人: | 黄云钟 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;珠海方正科技高密电子有限公司 |
| 主分类号: | B01D35/02 | 分类号: | B01D35/02;C23C18/38;H05K3/18 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学 溶液 循环 过滤 系统 方法 | ||
1.一种化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,包括:
沉铜反应主槽,其具有用于排出化学沉铜溶液的溢流口;
过滤装置,其具有入口和出口,所述入口通过排出溶液循环管道连接到所述溢流口;和
排入溶液循环管道,其具有第一端和第二端,所述第一端与所述过滤装置的出口相连,且所述第二端延伸到所述沉铜反应主槽的回流位置;优选地,所述回流位置位于与所述溢流口相对的侧壁处;
其中,所述排入溶液循环管道的邻近于所述第二端的排入部分沿与所述沉铜反应主槽的底面平行或垂直或倾斜的方向延伸,所述排入溶液循环管道的排入部分中具有一个或多个开口,所述开口设在所述沉铜反应主槽中的化学沉铜溶液的液面之上或之下,并且处于距离所述沉铜反应主槽的底部至少预定高度处。
2.根据权利要求1所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述过滤装置包括:
一个或多个粗过滤器,所述粗过滤器设在所述沉铜反应主槽的溢流口与回流位置之间,优选地所述粗过滤器设有一个或多个过滤网;
和/或
一个或多个细过滤器,所述细过滤器设在所述沉铜反应主槽的溢流口与回流位置之间,优选地所述细过滤器设有一个或多个滤芯和/或细滤网。
3.根据权利要求1或2所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述预定高度为所述沉铜反应主槽的高度的20-50%,优选地为30-50%,例如为40%。
4.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述开口的朝向相互相同或不同并且与所述沉铜反应主槽的底面平行或垂直或向上倾斜或向下倾斜,使得从所述开口喷出的溶液不冲击所述沉铜反应主槽的底壁。
5.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述开口朝向所述沉铜反应主槽的内侧壁设置,使得从所述开口喷出的溶液喷射到所述沉铜反应主槽的内侧壁上。
6.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述排入部分具有能够平动和/或转动的结构。
7.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述排入部分为细长形,所述开口为沿细长形的所述排入部分的纵向或周向分布的一组或多组开口;
和/或
所述排入部分弯曲成为环形,所述开口为沿环形的所述排入部分分布的一组或多组开口。
8.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,所述排入溶液循环管道的第二端封闭。
9.根据前述权利要求中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤系统,其特征在于,在所述排入溶液循环管道中设有用于控制化学沉铜溶液的回流状态和/或回流速度和/或喷射速度的阀。
10.一种化学沉铜溶液循环过滤方法,其特征在于,包括:
将沉铜反应主槽中的化学沉铜溶液排入过滤装置中;
通过所述过滤装置对所述化学沉铜溶液进行过滤;
在距离沉铜反应主槽底部至少预定高度处,使过滤后的化学沉铜溶液回流喷射到所述沉铜反应主槽中,且优选地通过朝向相同或者不同的多个开口回流喷射到所述沉铜反应主槽中。
11.根据权利要求10所述的化学沉铜溶液循环过滤方法,其特征在于,所述过滤装置包括粗过滤器和/或细过滤器,且通过所述过滤装置对所述化学沉铜溶液进行过滤包括:
通过所述粗过滤器对所述化学沉铜溶液进行过滤;
和/或,
通过所述细过滤器对所述化学沉铜溶液进行过滤。
12.根据权利要求10或11所述的化学沉铜溶液循环过滤方法,其特征在于,在使过滤后的化学沉铜溶液回流喷射到所述沉铜反应主槽中时,所述过滤后的化学沉铜溶液的喷射方向与所述沉铜反应主槽的底面平行或垂直或向上倾斜或向下倾斜,使得喷出的化学沉铜溶液不冲击所述沉铜反应主槽的底壁。
13.根据前述权利要求10-12中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤方法,其特征在于,在使过滤后的化学沉铜溶液回流喷射到所述沉铜反应主槽中时,使所述过滤后的化学沉铜溶液的喷射到所述沉铜反应主槽的内侧壁上。
14.根据前述权利要求10-13中任一项所述的化学沉铜溶液循环过滤方法,其特征在于,所述使过滤后的化学沉铜溶液回流喷射到所述沉铜反应主槽中包括:
使过滤后的化学沉铜溶液以预定的回流速度和/或喷射速度回流喷射到所述沉铜反应主槽中。
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