[发明专利]一种负热膨胀材料ZrW2O8薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 200910184179.X | 申请日: | 2009-08-21 |
| 公开(公告)号: | CN101665327A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
| 发明(设计)人: | 程晓农;杨娟;刘芹芹;孙秀娟;徐桂芳 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
| 主分类号: | C03C17/22 | 分类号: | C03C17/22;C01G41/00 |
| 代理公司: | 南京知识律师事务所 | 代理人: | 汪旭东 |
| 地址: | 212013*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 热膨胀 材料 zrw sub 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于:采用水热法制备负热 膨胀ZrW2O8薄膜,具体步骤为:
(1)前驱体的制备
以分析纯硝酸氧锆ZrO(NO3)2·5H2O和N5H37W6O24·H2O为原料,按Zr4+和 W6+溶液物质的量的比1∶2互相混合,混合的同时进行搅拌直至混合均匀,加入 浓度为6~12mol/L,体积为混合液1/4~1/3的HCl继续搅拌3~6h得到混合溶液 1;将混合溶液1在160~180℃时加热5~18小时,用蒸馏水洗涤得到前驱体;
(2)对石英基片采用常规工艺进行清洗和活化处理,具体为:将石英基片用体 积比为1∶1∶2的NH3、H2O2和H2O混合液超声清洗10min,倒掉混合液,用 去离子水清洗;再用体积比为1∶1∶2的HCl、H2O2和H2O超声清洗10min, 然后将基片用去离子水和无水乙醇洗净,吹干;
(3)水热法制备ZrW2O8薄膜
在步骤1制备的前驱体中加入柠檬酸,搅拌至溶胶,利用步骤2清洗的石英 基片采用旋涂法进行镀膜,保证薄膜涂覆均匀,之后将薄膜烘干;
(4)薄膜的热处理
将镀有薄膜的石英基片在520~590℃热处理1~6h,即可得到纯ZrW2O8薄膜。
2.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 步骤1中称取硝酸氧锆ZrO(NO3)2·5H2O溶于去离子水中,制成的Zr4+溶液摩尔 浓度为0.2mol/L;称取N5H37W6O24·H2O溶于去离子水中,制成的W6+溶液摩尔 浓度为0.2mol/L。
3.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 上述制备方法中,步骤1中将硝酸氧锆和钨酸铵混合的同时进行搅拌,搅拌时间 为2.5~5h。
4.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 步骤3采用旋涂法进行镀膜,匀胶机转速为6000~8000r/min,匀胶时间为30~50s。
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