[发明专利]一种负热膨胀材料ZrW2O8薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910184179.X 申请日: 2009-08-21
公开(公告)号: CN101665327A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 程晓农;杨娟;刘芹芹;孙秀娟;徐桂芳 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: C03C17/22 分类号: C03C17/22;C01G41/00
代理公司: 南京知识律师事务所 代理人: 汪旭东
地址: 212013*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
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【权利要求书】:

1.一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于:采用水热法制备负热 膨胀ZrW2O8薄膜,具体步骤为:

(1)前驱体的制备

以分析纯硝酸氧锆ZrO(NO3)2·5H2O和N5H37W6O24·H2O为原料,按Zr4+和 W6+溶液物质的量的比1∶2互相混合,混合的同时进行搅拌直至混合均匀,加入 浓度为6~12mol/L,体积为混合液1/4~1/3的HCl继续搅拌3~6h得到混合溶液 1;将混合溶液1在160~180℃时加热5~18小时,用蒸馏水洗涤得到前驱体;

(2)对石英基片采用常规工艺进行清洗和活化处理,具体为:将石英基片用体 积比为1∶1∶2的NH3、H2O2和H2O混合液超声清洗10min,倒掉混合液,用 去离子水清洗;再用体积比为1∶1∶2的HCl、H2O2和H2O超声清洗10min, 然后将基片用去离子水和无水乙醇洗净,吹干;

(3)水热法制备ZrW2O8薄膜

在步骤1制备的前驱体中加入柠檬酸,搅拌至溶胶,利用步骤2清洗的石英 基片采用旋涂法进行镀膜,保证薄膜涂覆均匀,之后将薄膜烘干;

(4)薄膜的热处理

将镀有薄膜的石英基片在520~590℃热处理1~6h,即可得到纯ZrW2O8薄膜。

2.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 步骤1中称取硝酸氧锆ZrO(NO3)2·5H2O溶于去离子水中,制成的Zr4+溶液摩尔 浓度为0.2mol/L;称取N5H37W6O24·H2O溶于去离子水中,制成的W6+溶液摩尔 浓度为0.2mol/L。

3.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 上述制备方法中,步骤1中将硝酸氧锆和钨酸铵混合的同时进行搅拌,搅拌时间 为2.5~5h。

4.如权利要求1所述的一种负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备方法,其特征在于: 步骤3采用旋涂法进行镀膜,匀胶机转速为6000~8000r/min,匀胶时间为30~50s。

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