[发明专利]记录和再现设备以及偏振方向控制方法无效
| 申请号: | 200910179363.5 | 申请日: | 2009-10-10 |
| 公开(公告)号: | CN101727924A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
| 发明(设计)人: | 伊藤辉将;田中健二;福本敦 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/0065 | 分类号: | G11B7/0065;G03H1/12;G03H1/22 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷;南霆 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 再现 设备 以及 偏振 方向 控制 方法 | ||
技术领域
本发明涉及记录和再现设备,该设备在包含记录层和反射式圆偏振膜 的全息记录介质上执行记录和再现,其中,数据由信号光与参考光之间的 干涉条纹记录在所述记录层中,所述反射式圆偏振膜形成于记录层的下方 并形成为将与入射的圆偏振光相同旋转方向的圆偏振光输出作为反射光。 本发明还涉及记录和再现设备中的偏振方向控制方法。
本发明还涉及记录和再现设备,该设备在包含记录层和反射式线偏振 膜的全息记录介质上执行记录和再现,其中,数据由信号光与参考光之间 的干涉条纹记录在所述记录层中,所述反射式线偏振膜形成于记录层的下 方并形成为反射p偏振光和s偏振光中的仅一者。
背景技术
如日本专利申请公开No.2007-200385(下文中称为专利文献1)中所 述,例如,已知一种全息记录和再现系统,其通过信号光与参考光之间的 干涉条纹形成全息图来记录数据。在这种全息记录和再现系统中,在记录 时,由根据记录数据而受到空间光调制(例如光强度调制)的信号光和与 信号光不同的参考光对全息记录介质进行照射,并在记录介质上形成干涉 条纹(全息图),从而记录数据。
在再现时,由参考光照射记录介质。当记录介质由参考光这样照射 时,获得了与如上所述形成的干涉条纹对应的衍射光。即,由此获得了与 记录数据对应的再现图像(再现信号光)。通过由图像传感器(例如CCD (电荷耦合器件)传感器或CMOS(互补金属氧化物半导体)传感器)对 这样获得的再现图像进行检测而再现记录数据。
图20以及图21A和图21B是有助于说明全息记录和再现系统的示意 图。图20示意性地示出了记录方法。图21A和图21B示意性地示出了再 现方法。
图20以及图21A和图21B示出了在采用所谓的共轴系统的情况下的 记录方法和再现方法,在该共轴系统中,由布置在相同的光轴上的信号光 和参考光执行记录。
另外,这些图还图示了使用具有反射膜的反射式全息记录介质100的 情况。
首先,如图20以及图21A和图21B所示,在这种全息记录和再现系 统中,设置了SLM(空间光调制器)101来在记录时产生信号光和参考 光,并在再现时产生参考光。SLM 101具有强度调制器,强度调制器使入 射光以像素单位受到空间光强度调制(也称为光强度调制或简称为强度调 制)。强度调制器例如可以由液晶面板形成。
首先,在图20所示的记录时,产生信号光和参考光,信号光由SLM 101的强度调制而被赋予了与记录数据对应的强度图案,而参考光被赋予 预定的强度图案。共轴系统使入射光受到空间光调制,使得信号光和参考 光如图20所示处于相同的光轴上。此时,一般而言,信号光处于内侧, 参考光处于信号光外侧,如图20所示。
SLM 101中产生的信号光和参考光通过物镜102而施加到全息记录介 质100上。由此,通过信号光与参考光之间的干涉条纹而在全息记录介质 100上形成反映了记录数据的全息图。即,数据通过形成全息图而被记 录。
在再现时,如图21A所示,SLM 101产生参考光(此时参考光的强度 图案与记录时相同)。然后,通过物镜102用参考光照射全息记录介质 100。
响应于由参考光对全息记录介质100的这种照射,如图21B所示,获 得了与全息记录介质100上形成的全息图对应的衍射光,从而获得了所记 录的数据的再现图像。在此情况下,如图21B所示,作为来自全息记录介 质100的反射光,通过物镜102使所再现的图像被导向图像传感器103。
图像传感器103以像素单位接收如上所述引导的再现图像的光,并对 于各个像素获得与所接收的光的量对应的电信号。图像传感器103从而对 于所再现的图像获得检测图像。图像传感器103中这样检测到的图像信号 是记录数据的读出信号。
另外,由参照图20和图21A、图21B的说明可以理解,这种全息记 录和再现系统以信号光的单位对记录数据进行记录/再现。即,在这种全息 记录和再现系统中,由信号光与参考光之间的一次干涉所形成的一个全息 图(称为全息图页)是记录/再现的最小单位。
发明内容
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