[发明专利]液晶显示器的阵列基板、信号线及其制造方法

权利要求书

1.一种信号线，其特征在于：包括第一部分及第二部分，所述第二部分 位于第一部分的两侧，且所述第二部分的高度等于所述第一部分，所述第二 部分上形成有至少一个凹槽，所述凹槽为由所述第二部分上的表面低于所述 第一部分的表面而形成的结构。

2.根据权利要求1所述的信号线，其特征在于：所述凹槽的深度小于第 二部分的高度。

3.根据权利要求1或2所述的信号线，其特征在于：所述信号线为栅线、 公共电极线和/或数据线。

4.一种液晶显示器阵列基板，包括多条信号线，其特征在于：所述信号 线包括第一部分及第二部分，所述第二部分位于第一部分的两侧，且所述第 二部分的高度等于所述第一部分，所述第二部分上形成有至少一个凹槽，所 述凹槽为由所述第二部分上的表面低于所述第一部分的表面而形成的结构。

5.根据权利要求4所述的液晶显示器阵列基板，其特征在于：所述凹槽 形成于信号线上的与像素电极的边缘相邻的位置上。

6.根据权利要求4或5所述的液晶显示器阵列基板，其特征在于：所述 信号线为栅线、公共电极线和/或数据线。

7.一种信号线的制造方法，其特征在于，包括：

步骤1、在基板上沉积金属薄膜；

步骤2、在完成步骤1的基板上，采用双调掩膜板，通过构图工艺形成 信号线图形及凹槽图形，得到所述信号线；

所述信号线包括第一部分及第二部分，所述第二部分位于第一部分的两 侧，且所述第二部分的高度不高于所述第一部分，所述第二部分上形成有至 少一个凹槽，所述凹槽为由所述第二部分上的表面低于所述第一部分的表面 而形成的结构。

8.根据权利要求7所述的信号线的制造方法，其特征在于步骤2具体包 括：

步骤21、在完成步骤1的基板上涂覆光刻胶；

步骤22、采用双调掩膜板，对所述光刻胶进行曝光和显影处理，形成完 全曝光区域、部分曝光区域以及未曝光区域，所述完全曝光区域对应于阵列 基板上的除信号线图形之外的部分，所述部分曝光区域对应于凹槽图形，所 述未曝光区域对应于信号线图形上的除凹槽图形之外的部分；

步骤23、刻蚀完全曝光区域的金属薄膜，得到信号线图形；

步骤24、进行光刻胶灰化工艺，暴露出部分曝光区域的金属薄膜，且未 曝光区域的光刻胶变薄；

步骤25、刻蚀步骤24中暴露出部分曝光区域的金属薄膜，得到凹槽图 形；

步骤26、剥离剩余光刻胶。