[发明专利]用于等离子处理设备的喷头电极总成有效
| 申请号: | 200880022333.7 | 申请日: | 2008-06-05 |
| 公开(公告)号: | CN101720363A | 公开(公告)日: | 2010-06-02 |
| 发明(设计)人: | 托马斯·R·史蒂文森;安东尼·德拉列拉;绍拉·乌拉尔 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/00 |
| 代理公司: | 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 | 代理人: | 樊英如 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 等离子 处理 设备 喷头 电极 总成 | ||
1.一种喷头电极总成,包括:
喷头电极,适于安装在真空室内部并由射频(RF)能量 供电;
连接到喷头电极的垫板;
通过多个紧固件在该垫板的多个接触点连接到该垫板的 热控制板,这些接触点包括在该热控制板的下表面上的间隔分 开的多个环形突出部;
该环形突出部之间的多个集气室中的由阳极氧化处理的 铝制成的挡环,每个挡环包括水平部分和邻近这些环形突出部 之一的垂直壁;和
至少一个导热且导电垫圈,其在这些接触点将该垫板和 该热控制板分开。
2.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该至少一个导热且 导电垫圈包括大小适于覆盖这些环形突出部的多个环形垫圈。
3.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该热控制板和该垫 板由裸铝制成,该垫圈是金属和聚合物材料制成的层压板。
4.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该喷头电极包括内 部电极和外部电极,该内部电极是由单晶硅制成的圆板,该外 部电极是由多个单晶硅分段组成的环形电极。
5.根据权利要求2所述的喷头电极总成,其中该档环的垂直壁在 其下端包括邻近该接触点的旁支,该喷头电极总成进一步包括 位于该旁支中以便在这些接触点的相对侧形成密封的O形环。
6.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中这些紧固件包括螺 纹旋进该垫板的螺栓,这些垫圈包括位于其中的通孔,该螺栓 通过这些通孔进入该垫板。
7.根据权利要求1所述的喷头电极总成,进一步包括在该热控制 板的上表面上的热力壅塞。
8.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该导热且导电垫圈 不含银、镍和铜,这些接触点覆盖该垫板表面积的1%到30%。
9.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该喷头电极包括硅 电极板,在其一侧具有气体出口,在与之相对的侧面弹性体粘 合到由裸铝制成的该垫板。
10.一种喷头电极总成,包括:
喷头电极,适于安装在真空室内部并由射频(RF)能量 供电;
连接到该喷头电极的垫板;
通过多个紧固件在该垫板的多个接触点连接到该垫板的 热控制板,这些接触点包括在该热控制板的下表面上的间隔分 开的多个环形突出部;
至少一个导热且导电垫圈,其在这些接触点将该垫板和 该热控制板分开,该至少一个导热且导电垫圈包括大小适于覆 盖这些环形突出部的多个环形垫圈;
该环形突出部之间的多个集气室中的由阳极氧化处理的 铝制成的挡环,每个挡环包括邻近这些环形突出部之一的垂直 壁,该垂直壁在其下端包括邻近该接触点的旁支;以及
位于该旁支中以便在这些接触点的相对侧形成密封的O 形环;
其中该挡环的垂直壁的上端通过垫片与该热控制板的下 表面分开,该垫片具有与该导热且导电垫圈相同的厚度。
11.一种包括根据权利要求1所述的喷头电极总成的真空室,进一 步包括:
温度控制器;
电源,适于提供功率至加热器,该加热器热响应该温度 控制器而加热该热控制板;
流体控制器,适于响应该温度控制器提供流体至该室的 温度受控顶壁;和
温度传感器装置,适于测量该喷头电极一个或多个部分 的温度,并提供信息至该温度控制器,
其中该真空室的顶壁电接地。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





