[发明专利]用于等离子处理设备的喷头电极总成有效

专利信息
申请号: 200880022333.7 申请日: 2008-06-05
公开(公告)号: CN101720363A 公开(公告)日: 2010-06-02
发明(设计)人: 托马斯·R·史蒂文森;安东尼·德拉列拉;绍拉·乌拉尔 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/00
代理公司: 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 代理人: 樊英如
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 等离子 处理 设备 喷头 电极 总成
【权利要求书】:

1.一种喷头电极总成,包括:

喷头电极,适于安装在真空室内部并由射频(RF)能量 供电;

连接到喷头电极的垫板;

通过多个紧固件在该垫板的多个接触点连接到该垫板的 热控制板,这些接触点包括在该热控制板的下表面上的间隔分 开的多个环形突出部;

该环形突出部之间的多个集气室中的由阳极氧化处理的 铝制成的挡环,每个挡环包括水平部分和邻近这些环形突出部 之一的垂直壁;和

至少一个导热且导电垫圈,其在这些接触点将该垫板和 该热控制板分开。

2.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该至少一个导热且 导电垫圈包括大小适于覆盖这些环形突出部的多个环形垫圈。

3.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该热控制板和该垫 板由裸铝制成,该垫圈是金属和聚合物材料制成的层压板。

4.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该喷头电极包括内 部电极和外部电极,该内部电极是由单晶硅制成的圆板,该外 部电极是由多个单晶硅分段组成的环形电极。

5.根据权利要求2所述的喷头电极总成,其中该档环的垂直壁在 其下端包括邻近该接触点的旁支,该喷头电极总成进一步包括 位于该旁支中以便在这些接触点的相对侧形成密封的O形环。

6.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中这些紧固件包括螺 纹旋进该垫板的螺栓,这些垫圈包括位于其中的通孔,该螺栓 通过这些通孔进入该垫板。

7.根据权利要求1所述的喷头电极总成,进一步包括在该热控制 板的上表面上的热力壅塞。

8.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该导热且导电垫圈 不含银、镍和铜,这些接触点覆盖该垫板表面积的1%到30%。

9.根据权利要求1所述的喷头电极总成,其中该喷头电极包括硅 电极板,在其一侧具有气体出口,在与之相对的侧面弹性体粘 合到由裸铝制成的该垫板。

10.一种喷头电极总成,包括:

喷头电极,适于安装在真空室内部并由射频(RF)能量 供电;

连接到该喷头电极的垫板;

通过多个紧固件在该垫板的多个接触点连接到该垫板的 热控制板,这些接触点包括在该热控制板的下表面上的间隔分 开的多个环形突出部;

至少一个导热且导电垫圈,其在这些接触点将该垫板和 该热控制板分开,该至少一个导热且导电垫圈包括大小适于覆 盖这些环形突出部的多个环形垫圈;

该环形突出部之间的多个集气室中的由阳极氧化处理的 铝制成的挡环,每个挡环包括邻近这些环形突出部之一的垂直 壁,该垂直壁在其下端包括邻近该接触点的旁支;以及

位于该旁支中以便在这些接触点的相对侧形成密封的O 形环;

其中该挡环的垂直壁的上端通过垫片与该热控制板的下 表面分开,该垫片具有与该导热且导电垫圈相同的厚度。

11.一种包括根据权利要求1所述的喷头电极总成的真空室,进一 步包括:

温度控制器;

电源,适于提供功率至加热器,该加热器热响应该温度 控制器而加热该热控制板;

流体控制器,适于响应该温度控制器提供流体至该室的 温度受控顶壁;和

温度传感器装置,适于测量该喷头电极一个或多个部分 的温度,并提供信息至该温度控制器,

其中该真空室的顶壁电接地。

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